| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 课题来源及研究的背景和意义 | 第9-11页 |
| 1.2 微结构表面抛光的研究现状 | 第11-13页 |
| 1.3 超声振动辅助抛光的研究现状 | 第13-16页 |
| 1.4 本课题的主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 实验平台的搭建及抛光盘和抛光液的选取 | 第17-31页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 实验平台的搭建 | 第17-24页 |
| 2.2.1 金刚石砂轮的电火花修整实验平台 | 第18-20页 |
| 2.2.2 圆弧槽微结构阵列的磨削实验平台 | 第20-21页 |
| 2.2.3 圆弧形抛光轮的修整实验平台 | 第21-22页 |
| 2.2.4 圆弧槽微结构阵列的抛光实验平台 | 第22-24页 |
| 2.3 工件材料和抛光材料的选取 | 第24-28页 |
| 2.3.1 碳化硅材料的选取 | 第24页 |
| 2.3.2 抛光盘材料的选取 | 第24-27页 |
| 2.3.3 抛光液种类的选取 | 第27-28页 |
| 2.4 系统误差分析 | 第28-30页 |
| 2.4.1 数控系统误差 | 第28-29页 |
| 2.4.2 工艺系统误差 | 第29-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 圆弧槽微结构阵列的抛光实验研究 | 第31-48页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 抛光轮修整方案及材料去除量测量方案的设计 | 第31-32页 |
| 3.2.1 圆弧形抛光轮修整方案的设计 | 第31-32页 |
| 3.2.2 材料去除量测量方案的设计 | 第32页 |
| 3.3 正交实验方案设计及结果分析 | 第32-36页 |
| 3.3.1 实验方案的设计 | 第32-33页 |
| 3.3.2 实验结果分析 | 第33-36页 |
| 3.4 抛光参数对表面质量和材料去除率的影响分析 | 第36-47页 |
| 3.4.1 抛光力-抛光轮转速对表面质量和材料去除率的影响 | 第36-41页 |
| 3.4.2 工件移动速度-抛光时间对表面质量和材料去除率的影响 | 第41-45页 |
| 3.4.3 抛光力-抛光时间对表面质量和材料去除率的影响 | 第45-47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-48页 |
| 第4章 超声振动辅助抛光实验研究及材料去除率方程的建立 | 第48-64页 |
| 4.1 引言 | 第48页 |
| 4.2 超声振动辅助抛光实验平台的搭建 | 第48-50页 |
| 4.3 实验方案设计及结果分析 | 第50-58页 |
| 4.3.1 正交实验设计及结果分析 | 第51-53页 |
| 4.3.2 有无超声振动抛光实验结果的对比分析 | 第53-56页 |
| 4.3.3 振幅和频率对表面质量和材料去除率的影响 | 第56-58页 |
| 4.4 材料去除率方程的建立 | 第58-62页 |
| 4.5 本章小结 | 第62-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
