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GaN基紫外LED的光致发光谱分析

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
符号对照表第10-11页
缩略语对照表第11-14页
第一章 绪论第14-24页
    1.1 引言第14页
    1.2 GaN材料第14-17页
        1.2.1 GaN基本结构第14-15页
        1.2.2 化学性质第15页
        1.2.3 电学性质第15-16页
        1.2.4 GaN的光学特性第16页
        1.2.5 GaN基材料特点第16-17页
    1.3 GaN基LED的发展历史第17-18页
    1.4 紫外LED第18-21页
        1.4.1 紫外LED的优势与应用第18-20页
        1.4.2 紫外LED存在的问题第20-21页
    1.5 本论文研究意义和目的第21-24页
第二章 GaN基LED制备和光学性能第24-36页
    2.1 GaN基LED制备和工艺流程第24-27页
        2.1.1 MOCVD外延生长第24-26页
        2.1.2 MOCVD系统第26-27页
    2.2 GaN中的杂质缺陷第27-31页
        2.2.1 单杂质类型第28-30页
        2.2.2 复合体杂质缺陷第30-31页
    2.3 影响光学性能的因素第31-34页
        2.3.1 杂质对光学性能的影响第31-33页
        2.3.2 量子与超晶格结构对光学性能的影响第33-34页
    2.4 本章小结第34-36页
第三章 量子阱结构优化实验第36-48页
    3.1 引言第36页
    3.2 材料表征方法第36-39页
        3.2.1 光致发光第36-37页
        3.2.2 X射线衍射第37-39页
    3.3 量子阱阱宽对发光性能的影响第39-44页
        3.3.1 样品制备第39-42页
        3.3.2 PL谱测试结果与分析第42-44页
    3.4 量子阱垒层Al组分对LED光学性能的影响第44-47页
        3.4.1 样品制备第44-45页
        3.4.2 PL谱测试结果与分析第45-47页
    3.5 本章小结第47-48页
第四章 杂质缺陷对LED光学性能的影响第48-60页
    4.1 引言第48页
    4.2 GaN基LED中杂质存在类型及载流子复合机制第48-50页
    4.3 紫外LED外延片PL谱与杂质缺陷关系分析第50-54页
        4.3.1 样品的制备第50-51页
        4.3.2 实验结果与分析第51-54页
    4.4 阱层In组分含量对杂质能级的影响第54-58页
        4.4.1 样品制备第54-55页
        4.4.2 实验结果与分析第55-58页
    4.5 本章小结第58-60页
第五章 总结与展望第60-62页
参考文献第62-70页
致谢第70-72页
作者简介第72页

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