| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第16-19页 |
| 1.1 Y_2O_3的基本特性 | 第16页 |
| 1.2 Y_2O_3薄膜的研究现状 | 第16-18页 |
| 1.3 本工作的研究目的及意义 | 第18-19页 |
| 第二章 Y_2O_3薄膜的制备与表征方法 | 第19-23页 |
| 2.1 Y_2O_3薄膜的制备方法 | 第19页 |
| 2.2 Y_2O_3薄膜的高温热处理 | 第19-20页 |
| 2.3 Y_2O_3薄膜的表征 | 第20-23页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第20-21页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第21-22页 |
| 2.3.3 能量色散X射线光谱仪(EDX) | 第22页 |
| 2.3.4 紫外可见近红外(UV-VIS-NIR)分光光度计 | 第22-23页 |
| 第三章 Y_2O_3薄膜的制备及特性研究 | 第23-41页 |
| 3.1 Si衬底上Y_2O_3薄膜的制备及其特性研究 | 第23-33页 |
| 3.1.1 Y_2O_3薄膜的结构特性 | 第23-29页 |
| 3.1.2 Y_2O_3薄膜的形貌特征 | 第29页 |
| 3.1.3 退火对Y_2O_3薄膜特性的影响 | 第29-33页 |
| 3.2 玻璃衬底上Y_2O_3薄膜的制备及其特性研究 | 第33-41页 |
| 3.2.1 Y_2O_3薄膜的结构特性 | 第33-37页 |
| 3.2.2 Y_2O_3薄膜的表面形貌和成分分析 | 第37-38页 |
| 3.2.3 Y_2O_3薄膜的光学特性 | 第38-41页 |
| 第四章 金属掺杂Y_2O_3薄膜的制备及其特性研究 | 第41-70页 |
| 4.1 Si衬底上Sn:Y_2O_3薄膜的特性研究 | 第42-49页 |
| 4.1.1 不同掺杂功率Sn:Y_2O_3薄膜的特性 | 第42-45页 |
| 4.1.2 不同掺杂时间Sn:Y_2O_3薄膜的特性 | 第45-47页 |
| 4.1.3 退火对Sn:Y_2O_3薄膜的结构及表面形貌的影响 | 第47-49页 |
| 4.2 Si衬底上V:Y_2O_3薄膜的特性研究 | 第49-55页 |
| 4.2.1 不同掺杂功率V:Y_2O_3薄膜的特性 | 第49-51页 |
| 4.2.2 不同掺杂时间V:Y_2O_3薄膜的特性 | 第51-54页 |
| 4.2.3 退火对V:Y_2O_3薄膜的结构及形貌的影响 | 第54-55页 |
| 4.3 玻璃衬底上Sn:Y_2O_3薄膜的特性研究 | 第55-63页 |
| 4.3.1 不同掺杂功率Sn:Y_2O_3薄膜的特性 | 第55-59页 |
| 4.3.2 不同掺杂时间Sn:Y_2O_3薄膜的特性 | 第59-63页 |
| 4.4 玻璃衬底上V:Y_2O_3薄膜的特性 | 第63-70页 |
| 4.4.1 不同掺杂功率V:Y_2O_3薄膜的特性 | 第63-66页 |
| 4.4.2 不同掺杂时间的V:Y_2O_3薄膜的特性 | 第66-70页 |
| 第五章 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
| 附录(攻读硕士学位期间发表论文目录) | 第84页 |
