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基于中介层散射的两步移相宽场三维显微成像技术研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第1章 绪论第13-31页
    1.1 课题研究的背景、目的和意义第13-15页
    1.2 国内外研究现状第15-19页
    1.3 光学层析显微成像技术及其相关理论的发展概况第19-25页
        1.3.1 共焦显微成像技术第19-21页
        1.3.2 单平面光照明显微成像技术第21-23页
        1.3.3 其它光学层析显微成像技术第23-25页
    1.4 宽场结构光照明三维显微成像技术的发展现状第25-28页
    1.5 本研究领域存在的科学问题及关键技术问题第28-29页
    1.6 本文的主要研究内容第29-31页
第2章 宽场成像系统传递函数基础理论第31-48页
    2.1 引言第31页
    2.2 光学系统传递函数介绍第31-33页
    2.3 宽场成像相干传递函数介绍第33-36页
    2.4 宽场成像非相干光学传递函数介绍第36-39页
    2.5 典型样品宽场成像模型第39-42页
        2.5.1 轴向和横向无变化的厚物体第39-41页
        2.5.2 薄物体第41-42页
    2.6 传统宽场结构光照明三维显微成像特性分析第42-46页
    2.7 本章小结第46-48页
第3章 基于中介层散射的宽场结构光照明三维显微成像特性分析第48-76页
    3.1 引言第48页
    3.2 传统结构光照明三维显微成像方法第48-51页
    3.3 曲面光学元件表面光学成像特性空域分析第51-54页
    3.4 曲面光学元件表面结构光照明显微成像频域分析第54-66页
        3.4.1 宽场成像照明光瞳与成像光瞳的几何关系第54-59页
        3.4.2 曲面光学元件表面样品成像时的有效光学传递函数第59-66页
    3.5 基于中介层散射的结构光照明三维显微成像方法第66-74页
        3.5.1 基于中介层散射的成像方法第66-71页
        3.5.2 荧光中介层对系统相干性的作用第71-73页
        3.5.3 荧光中介层厚度对成像结果的影响第73-74页
    3.6 本章小结第74-76页
第4章 两步移相宽场结构光照明三维显微方法第76-89页
    4.1 引言第76页
    4.2 非移相宽场结构光照明三维显微方法第76-83页
        4.2.1 频域条纹解算方法第77-79页
        4.2.2 频谱成分传递特性分析第79-82页
        4.2.3 条纹解算方法仿真验证第82-83页
    4.3 两步移相宽场结构光照明三维显微方法第83-88页
        4.3.1 频域条纹解算方法第83-85页
        4.3.2 频谱成分传递特性分析第85-87页
        4.3.3 条纹解算方法仿真验证第87-88页
    4.4 本章小结第88-89页
第5章 曲面光学元件表面的结构光照明显微成像实验第89-103页
    5.1 引言第89页
    5.2 实验系统第89-94页
        5.2.1 实验系统的构建第89-91页
        5.2.2 实验样品的制备第91页
        5.2.3 实验软件第91-94页
    5.3 曲面光学元件样品的成像实验第94-102页
        5.3.1 三步移相FSSIWM方法成像结果第94-95页
        5.3.2 非移相FSSIWM方法成像结果第95-97页
        5.3.3 两步移相FSSIWM方法成像结果第97-99页
        5.3.4 实验结果分析与讨论第99-102页
    5.4 本章小结第102-103页
结论第103-106页
参考文献第106-119页
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果第119-122页
致谢第122-124页
个人简历第124页

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