| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第7-12页 |
| 1.1 引言 | 第7页 |
| 1.2 微盘激光器的结构与优点 | 第7-8页 |
| 1.3 微盘激光器的发展 | 第8-11页 |
| 1.4 本文主要工作 | 第11-12页 |
| 第二章 微盘腔的基本原理与结构 | 第12-19页 |
| 2.1 回音壁模式分析 | 第12-15页 |
| 2.2 蜗线形腔中的光学模式 | 第15-17页 |
| 2.3 QCL出光原理 | 第17-19页 |
| 第三章 微盘激光器的工艺研究及器件制备 | 第19-34页 |
| 3.1 工艺流程概述 | 第19页 |
| 3.2 外延片生长与检测 | 第19-22页 |
| 3.3 预置固体掩膜版 | 第22-23页 |
| 3.4 光刻工艺 | 第23-27页 |
| 3.5 刻蚀工艺 | 第27-31页 |
| 3.6 欧姆接触工艺 | 第31-32页 |
| 3.7 封装工艺 | 第32-34页 |
| 第四章 微盘激光器的优化与测试 | 第34-48页 |
| 4.1 微盘激光器的热特性优化 | 第34-45页 |
| 4.2 器件检测 | 第45-48页 |
| 第五章 结论及展望 | 第48-49页 |
| 5.1 结论 | 第48页 |
| 5.2 展望 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |