纳米结构的聚吡咯纤维和薄膜的可控制备研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-28页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-9页 |
| 1.2 聚吡咯的分子结构 | 第9页 |
| 1.3 聚吡咯的合成机理 | 第9-11页 |
| 1.4 聚吡咯的掺杂 | 第11-12页 |
| 1.4.1 质子酸掺杂 | 第11页 |
| 1.4.2 氧化还原掺杂 | 第11-12页 |
| 1.5 聚吡咯的合成 | 第12-14页 |
| 1.5.1 化学氧化合成法 | 第12-13页 |
| 1.5.2 电化学氧化合成法 | 第13-14页 |
| 1.6 聚吡咯的形貌调控 | 第14-24页 |
| 1.6.1 模板法 | 第14-19页 |
| 1.6.2 界面聚合法 | 第19-24页 |
| 1.7 聚吡咯的应用 | 第24-27页 |
| 1.7.1 聚吡咯在能源材料领域的应用 | 第24-25页 |
| 1.7.2 聚吡咯在传感器件领域的应用 | 第25页 |
| 1.7.3 聚吡咯在电磁屏蔽领域的应用 | 第25-26页 |
| 1.7.4 聚吡咯在金属防腐领域的应用 | 第26-27页 |
| 1.8 研究思路及创新之处 | 第27-28页 |
| 第二章 聚吡咯纳米材料的制备 | 第28-41页 |
| 2.1 实验原料和实验设备 | 第29-30页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第29-30页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第30页 |
| 2.2 实验部分 | 第30-32页 |
| 2.2.1 在不同模板条件下制备聚吡咯 | 第30-31页 |
| 2.2.2 不同聚合时间条件下制备聚吡咯 | 第31页 |
| 2.2.3 不同掺杂酸条件下制备聚吡咯 | 第31页 |
| 2.2.4 利用水热法制备聚吡咯 | 第31-32页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第32-39页 |
| 2.3.1 SDBS与SDS体系 | 第32-34页 |
| 2.3.2 CTAB与SDBS体系 | 第34-39页 |
| 2.4 本章小结 | 第39-41页 |
| 第三章 聚吡咯致密膜的制备 | 第41-51页 |
| 3.1 实验部分 | 第41-42页 |
| 3.1.1 添加表面活性剂制备聚吡咯致密膜 | 第41-42页 |
| 3.1.2 无表面活性剂制备聚吡咯致密膜 | 第42页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第42-49页 |
| 3.2.1 添加表面活性剂聚合体系 | 第42-47页 |
| 3.2.2 无表面活性剂的聚合体系 | 第47-49页 |
| 3.3 本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 聚吡咯多孔膜的制备 | 第51-60页 |
| 4.1 实验部分 | 第51-52页 |
| 4.1.1 聚吡咯多孔膜的制备 | 第51页 |
| 4.1.2 聚吡咯多孔膜的二次生长 | 第51-52页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第52-59页 |
| 4.2.1 聚吡咯多孔膜的制备 | 第52-58页 |
| 4.2.2 聚吡咯多孔膜二次生长 | 第58-59页 |
| 4.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
