| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第一章 概述 | 第11-31页 |
| ·同步辐射技术的发展 | 第11-14页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·同步辐射的发展 | 第12-13页 |
| ·同步辐射装置 | 第13-14页 |
| ·同步辐射的分光技术 | 第14-24页 |
| ·同步辐射光束线结构 | 第14-16页 |
| ·光栅分光原理 | 第16-18页 |
| ·晶体分光原理 | 第18-22页 |
| ·多层膜分光原理 | 第22-24页 |
| ·论文的研究背景及意义 | 第24-25页 |
| ·论文内容安排 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-31页 |
| 第二章弧矢聚焦晶体单色器及相关技术的研究 | 第31-61页 |
| ·同步辐射常用晶体单色器 | 第31-34页 |
| ·固定光束输出位置双晶单色器 | 第31-32页 |
| ·切槽晶体单色器 | 第32-33页 |
| ·Laue-Bragg型晶体单色器 | 第33-34页 |
| ·NSRL-XAFS光束线矢聚焦双晶单色器的光学结构 | 第34-39页 |
| ·晶体弧矢聚集原理 | 第34-36页 |
| ·NSRL-XAFS光束线弧矢聚焦双晶单色器光学结构设计 | 第36-39页 |
| ·同步辐射热载荷对晶体衍射效率的影响 | 第39-43页 |
| ·热载荷计算 | 第39-40页 |
| ·平面晶体的热载分析 | 第40-43页 |
| ·晶体鞍型变形的抑制及优化 | 第43-52页 |
| ·鞍型变形的产生机理 | 第43-45页 |
| ·鞍型变形对衍射效率的影响 | 第45-46页 |
| ·鞍型变形的抑制 | 第46-52页 |
| ·晶体模型的优化设计、加工及测量 | 第52-56页 |
| ·晶体模型的优化设计 | 第53-54页 |
| ·晶体模型的加工及测量 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 第三章大曲率弧矢弯曲复合晶体的研制 | 第61-77页 |
| ·晶体复合方案 | 第61-67页 |
| ·晶体模型的应力分析 | 第61-63页 |
| ·复合晶体模型的聚焦原理 | 第63-64页 |
| ·晶体模型的设计 | 第64-65页 |
| ·钛合金基底的应力分析 | 第65-66页 |
| ·晶体模型的制作 | 第66-67页 |
| ·晶体模型的测量 | 第67-75页 |
| ·晶体衍射表面的面形精度 | 第67-68页 |
| ·晶体模型弯曲的稳定性 | 第68-70页 |
| ·模拟光路 | 第70-71页 |
| ·聚焦光斑的测量 | 第71页 |
| ·压弯过程中光斑的漂移 | 第71-74页 |
| ·衍射效率的计算 | 第74-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-77页 |
| 第四章同步辐射多层膜研究及热载分析 | 第77-107页 |
| ·同步辐射多层膜技术 | 第77-87页 |
| ·多层膜的镀膜技术及检测方法 | 第78-81页 |
| ·多层膜反射率的影响因素 | 第81-84页 |
| ·多层膜分类 | 第84-87页 |
| ·同步辐射白光多层膜 | 第87-91页 |
| ·多层膜模型 | 第88页 |
| ·多层膜表面粗照度及面型测量 | 第88-91页 |
| ·多层膜的反射率 | 第91页 |
| ·多层膜的热载分析 | 第91-100页 |
| ·晶体基底热变形应变原理 | 第91-92页 |
| ·多层膜表面与基底温度分布 | 第92-93页 |
| ·多层膜的冷却方式及光斑大小的选择 | 第93-96页 |
| ·冷却位置选择 | 第96-98页 |
| ·多层膜基底的优化 | 第98-100页 |
| ·多层膜的梯度冷却和表面热变形的测量 | 第100-104页 |
| ·多层膜基底的梯度冷却 | 第101-103页 |
| ·多层膜表面热变形的在线测量 | 第103-104页 |
| ·本章小结 | 第104-105页 |
| 参考文献 | 第105-107页 |
| 第五章总结及展望 | 第107-109页 |
| ·论文总结 | 第107页 |
| ·课题的主要创新点 | 第107-108页 |
| ·课题的展望 | 第108-109页 |
| 致谢 | 第109-110页 |
| 攻读博士期间发表的论文 | 第110-111页 |