用于气体传感的红外探测器材料与器件制备
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-16页 |
| ·MEMS 技术简介 | 第8-10页 |
| ·红外探测器简介 | 第10-14页 |
| ·本论文的研究意义和主要研究内容 | 第14-16页 |
| 2 氧化钒薄膜的制备与性能测试 | 第16-37页 |
| ·氧化钒薄膜的性质 | 第16-18页 |
| ·氧化钒薄膜的制备方法 | 第18-20页 |
| ·VO_2薄膜的工艺制备 | 第20-26页 |
| ·VO_2薄膜的性能测试 | 第26-32页 |
| ·VO_2光学常数的测试 | 第32-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 3 氮化钛薄膜的制备与分析 | 第37-50页 |
| ·氮化钛的介绍 | 第37页 |
| ·氮化钛的制备 | 第37-39页 |
| ·氮化钛薄膜的电学常数和光学常数的测试 | 第39-45页 |
| ·多层膜系的设计与应用 | 第45-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 4 非致冷红外气体探测器的制备工艺 | 第50-70页 |
| ·多孔硅牺牲层的制备 | 第50-57页 |
| ·氮化硅支撑层的制备 | 第57-58页 |
| ·制作金属电极 | 第58-60页 |
| ·制备氮化硅隔离层 | 第60-64页 |
| ·制备 VO_2热吸收层 | 第64-65页 |
| ·制备 MIM 三层膜系 | 第65-66页 |
| ·释放多孔硅 | 第66-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 5 总结与展望 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
