摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-14页 |
·研究背景和研究意义 | 第9-10页 |
·BST 材料结构与性能 | 第10-11页 |
·BST 薄膜变容管的应用 | 第11-13页 |
·论文研究主要内容 | 第13-14页 |
第二章 BST 薄膜变容管制备及测试方法 | 第14-23页 |
·BST 薄膜制备和表征 | 第14-16页 |
·BST 薄膜的制备 | 第14页 |
·BST 薄膜测试样品上电极的制备 | 第14-15页 |
·BST 薄膜的表征方法 | 第15-16页 |
·BST 薄膜微细加工及性能测试 | 第16-19页 |
·微细加工光刻过程 | 第16-18页 |
·薄膜介电性能测量 | 第18-19页 |
·可调匹配网络的设计与测试方法 | 第19-23页 |
第三章 A1_2O_3陶瓷基片上BST 薄膜制备和性能研究 | 第23-33页 |
·磁控溅射用BST 靶材的制备 | 第23-26页 |
·靶材制备工艺流程 | 第23-25页 |
·靶材烧制结果 | 第25-26页 |
·A1_2O_3 陶瓷基片上BST 薄膜性能的研究 | 第26-32页 |
·研究方法及过程 | 第26页 |
·溅射成分比对BST 薄膜的影响 | 第26-27页 |
·溅射气压对BST 薄膜结构和性能的影响 | 第27-29页 |
·基片温度对BST 薄膜变容管结构和性能的影响 | 第29-31页 |
·BST 可变电容的频率特性 | 第31-32页 |
·本章小结 | 第32-33页 |
第四章 BST 变容管光刻工艺的研究 | 第33-41页 |
·BST 薄膜变容管的设计过程 | 第33-35页 |
·BST 薄膜变容管制备工艺的研究 | 第35-36页 |
·A1_2O_3 陶瓷基片上光刻工艺 | 第36-37页 |
·A1_2O_3 陶瓷基片上变容管的图形化 | 第37-40页 |
·本章小结 | 第40-41页 |
第五章 微带可调匹配网络的设计及验证 | 第41-52页 |
·研究内容和目标 | 第41-42页 |
·可调匹配网络的仿真设计及制造 | 第42-44页 |
·可调匹配网络的测试过程 | 第44-45页 |
·可调匹配网络测试结果及其分析 | 第45-51页 |
·本章小结 | 第51-52页 |
第六章 结论 | 第52-53页 |
致谢 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-58页 |
攻读硕期间取得的研究成果 | 第58-59页 |