| 第一章 绪论 | 第1-20页 |
| ·课题的研究背景和意义 | 第10-12页 |
| ·国内外研究现状 | 第12-19页 |
| ·量子阱薄膜结构机电特性的理论研究现状 | 第12-13页 |
| ·基于量子阱薄膜的微结构研究现状 | 第13-15页 |
| ·量子阱薄膜及基于量子阱薄膜微结构的机电特性实验研究现状 | 第15-19页 |
| ·本论文的研究工作 | 第19-20页 |
| 第二章 量子阱薄膜结构的机电特性理论与设计加工 | 第20-37页 |
| ·量子阱薄膜结构的机电特性理论 | 第20-28页 |
| ·半导体超晶格 | 第20-22页 |
| ·介观压阻效应 | 第22-25页 |
| ·量子阱薄膜结构的工作原理及电流成分 | 第25-28页 |
| ·量子阱薄膜及基于量子阱薄膜的微结构的设计加工 | 第28-37页 |
| ·量子阱薄膜生长技术——分子束外延生长（MBE） | 第28-31页 |
| ·量子阱薄膜及基于量子阱薄膜的微结构的设计加工 | 第31-37页 |
| 第三章 实验测试理论及实验设计 | 第37-53页 |
| ·拉曼光谱简述 | 第37页 |
| ·拉曼散射原理 | 第37-39页 |
| ·拉曼应力标定理论研究 | 第39-46页 |
| ·量子阱薄膜及微结构机电特性的实验设计 | 第46-48页 |
| ·激光拉曼光谱应力标定系统的调试 | 第48-53页 |
| 第四章 实验测试及分析 | 第53-80页 |
| ·量子阱薄膜结构的机电特性实验测试及分析 | 第53-67页 |
| ·共振隧穿结构垂直于薄膜生长方向（X 方向）上的加压实验测试 | 第53-57页 |
| ·共振隧穿结构平行于薄膜生长方向（Z 方向）上的加压实验测试 | 第57-62页 |
| ·基于量子阱薄膜的微传感结构的实验测试 | 第62-67页 |
| ·量子阱薄膜结构的机电特性温度实验测试 | 第67-79页 |
| ·基于量子阱薄膜的共振隧穿结构的一致性实验测试 | 第67-69页 |
| ·基于量子阱薄膜的共振隧穿结构的温度实验测试 | 第69-79页 |
| ·实验遗留问题 | 第79-80页 |
| 结束语 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-87页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及所取得的研究成果 | 第87-89页 |
| 致谢 | 第89页 |
