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金属氧化物半导体材料的电化学方法制备研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第一章 半导体材料研究进展第10-17页
   ·半导体材料的分类第10-11页
   ·半导体材料的制备第11-16页
   ·选题依据及研究内容第16-17页
第二章 氧化锌的电沉积第17-29页
   ·引言第17页
   ·实验第17-18页
   ·结果与讨论第18-28页
     ·锌离子浓度对氧化锌电沉积的影响第18-24页
     ·硫酸根离子浓度对氧化锌电沉积的影响第24-28页
   ·本章小结第28-29页
第三章 氧化锌的电偶沉积第29-65页
   ·引言第29-30页
   ·实验第30-32页
   ·结果与讨论第32-64页
     ·支持电解质的性质对氧化锌电偶沉积的影响第32-41页
     ·锌离子浓度对氧化锌电偶沉积及性能的影响第41-50页
     ·支持电解质浓度对氧化锌电偶沉积及性能的影响第50-55页
     ·退火对电偶沉积氧化锌光学性能的影响第55-64页
   ·本章小结第64-65页
第四章 氧化亚铜的电偶沉积第65-81页
   ·引言第65页
   ·实验第65-66页
   ·结果与讨论第66-80页
     ·支持电解质性质对氧化亚铜电偶沉积的影响第66-76页
     ·氟离子浓度对氧化亚铜电偶沉积的影响第76-80页
   ·本章小结第80-81页
第五章 氧化锌修饰铜枝晶的无电沉积第81-87页
   ·引言第81页
   ·实验第81-82页
   ·结果与讨论第82-86页
   ·本章小结第86-87页
结论第87-88页
参考文献第88-104页
作者简介第104页
攻读博士学位期间发表学术论文情况第104-107页
创新点汇总第107-108页
致谢第108-109页

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