| 1．引言 | 第1-22页 |
| 1．1．课题意义 | 第11-12页 |
| 1．2．国内外对光学无件激光损伤的研究情况 | 第12-14页 |
| 1．3．本论文的研究内容及主要研究结果 | 第14-18页 |
| 参考文献 | 第18-22页 |
| 2．激光损伤机理和损伤判别方法研究 | 第22-45页 |
| 2．1．激光损伤机理的理论研究 | 第22-30页 |
| 2．1．1．雪崩电离理论 | 第22-23页 |
| 2．1．2．多光子吸收电离理论 | 第23-26页 |
| 2．1．3．杂质缺陷模型 | 第26-27页 |
| 2．1．4．场效应损伤 | 第27-30页 |
| 2．2．薄膜损伤规律的实验研究 | 第30-31页 |
| 2．3．激光辐照损伤判别方法 | 第31-39页 |
| 2．3．1．光学元件激光损伤的定义 | 第31-32页 |
| 2．3．2．光斑形变的判别 | 第32页 |
| 2．3．3．等离子体闪光判别 | 第32-34页 |
| 2．3．4．反射光能量判别 | 第34-35页 |
| 2．3．5．光热信号判别 | 第35-36页 |
| 2．3．6．透射反射扫描法 | 第36-37页 |
| 2．3．7．散射光判别法 | 第37-39页 |
| 2．4．讨论 | 第39-41页 |
| 2．5．小结 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-45页 |
| 3．镀膜材料选择及镀膜实验 | 第45-86页 |
| 3．1．几种镀膜方法介绍 | 第45-49页 |
| 3．1．1．真空蒸发镀膜 | 第45-46页 |
| 3．1．2．溅射镀膜 | 第46页 |
| 3．1．3．离子镀 | 第46页 |
| 3．1．4．化学气相沉积 | 第46-47页 |
| 3．1．5．溶胶-凝胶技术 | 第47-48页 |
| 3．1．6．电子束镀膜和反应离子溅射镀膜的损伤阈值比较 | 第48-49页 |
| 3．2．电子束镀膜装置 | 第49-50页 |
| 3．3．镀膜材料的选择 | 第50-54页 |
| 3．3．1．常用镀膜材料的性质 | 第50-51页 |
| 3．3．2．混合膜料的选用 | 第51-54页 |
| 3．4．镀膜工艺条件 | 第54-65页 |
| 3．4．1．最佳镀膜工艺参数 | 第54-59页 |
| 3．4．2．镀膜工艺对激光损伤阈值的影响 | 第59-62页 |
| 3．4．3．镀膜工艺对薄膜表面粗糙度的影响 | 第62-65页 |
| 3．5．K9玻璃基片的清洗工艺研究 | 第65-78页 |
| 3．5．1．基片清洗的一般方法 | 第65-66页 |
| 3．5．2．目前基片清洗的研究情况 | 第66-68页 |
| 3．5．3．K9玻璃基片的新清洗工艺 | 第68-71页 |
| 3．5．4．实验数据分析 | 第71-78页 |
| 3．6．小结 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-86页 |
| 4．薄膜特性表征及其激光损伤形貌观测 | 第86-112页 |
| 4．1．膜层的反射率 | 第86-88页 |
| 4．2．椭偏测量薄膜光学常数的原理 | 第88-93页 |
| 4．2．1．反射系数比 | 第88-91页 |
| 4．2．2．椭偏测量装置 | 第91-92页 |
| 4．2．3．薄膜折射率测量结果 | 第92-93页 |
| 4．3．薄膜结构的X射线衍射(XRD)分析 | 第93-96页 |
| 4．3．1．HfO_2膜的X射线衍射谱 | 第93-94页 |
| 4．3．2．Al_2O_3膜的X射线衍射谱 | 第94页 |
| 4．3．3．HfO_2+Al_2O_3混合膜的X射线衍射谱 | 第94-95页 |
| 4．3．4．ZrO_2+Y_2O_3(80：20)混合膜的X射线衍射谱 | 第95-96页 |
| 4．4．薄膜表面的原子力显微镜(AFM)观测 | 第96-97页 |
| 4．5．薄膜成分及杂质的光电子能谱(XPS)检测 | 第97-101页 |
| 4．5．1．薄膜中杂质成分的分析 | 第97-99页 |
| 4．5．2．薄膜成分与薄膜厚度的关系 | 第99-101页 |
| 4．6．损伤形貌观测 | 第101-109页 |
| 4．6．1．相衬显微镜观测 | 第101-105页 |
| 4．6．2．雾气法得到的损伤形貌 | 第105-106页 |
| 4．6．3．扫描电子显微镜(SEM)观测 | 第106-107页 |
| 4．6．4．原子力显微镜(AFM)观察 | 第107-109页 |
| 4．7．小结 | 第109-111页 |
| 参考文献 | 第111-112页 |
| 5．脉冲激光损伤的统计规律和损伤阈值检测结果与分析 | 第112-141页 |
| 5．1．脉冲激光引起光学介质膜层损伤的缺陷统计规律 | 第112-117页 |
| 5．1．1．损伤几率P和缺陷损伤聚合函数f(Ⅰ)的关系 | 第112-113页 |
| 5．1．2．对高斯型光束的应用 | 第113-115页 |
| 5．1．3．缺陷聚合体的模型 | 第115页 |
| 5．1．4．非简并模型 | 第115-117页 |
| 5．2．脉冲激光与光学元件相互作用的四种方式 | 第117页 |
| 5．3．两种激光损伤阈值的确定方法 | 第117-121页 |
| 5．3．1．50％损伤几率阈制 | 第118-119页 |
| 5．3．2．零损伤几率阈制 | 第119-121页 |
| 5．4．测试装置原理 | 第121-125页 |
| 5．4．1．激光脉冲能量检测 | 第121-123页 |
| 5．4．2．激光脉冲波形及脉宽测量 | 第123页 |
| 5．4．3．光斑能量分布及光斑面积测量 | 第123-124页 |
| 5．4．4．测试系统的自动控制 | 第124页 |
| 5．4．5．R-on-1测试的能量加载方式 | 第124-125页 |
| 5．5．光学薄膜损伤阈值的激光预处理效应 | 第125-126页 |
| 5．6．阈值测试结果与分析 | 第126-137页 |
| 5．6．1．HfO_2+Al_2O_3薄膜损伤阈值 | 第126-127页 |
| 5．6．2 不同条件下样品损伤阈值的比较 | 第127-133页 |
| 5．6．3．线性拟合与非线性拟合的零几率损伤阈值的比较 | 第133-136页 |
| 5．6．4．光斑影响 | 第136-137页 |
| 5．7．小结 | 第137-139页 |
| 参考文献 | 第139-141页 |
| 6．结束语 | 第141-143页 |
| 7．附录 | 第143-146页 |
| 在攻读博士学位期间发表的论文 | 第146-148页 |
| 致谢 | 第148-149页 |
