| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| ·微弧氧化简介 | 第9-13页 |
| ·微弧氧化基本原理 | 第9-10页 |
| ·微弧氧化陶瓷层形成过程 | 第10-11页 |
| ·微弧氧化陶瓷层击穿理论的沿革 | 第11页 |
| ·微弧氧化技术的发展现状 | 第11-12页 |
| ·铝合金微弧氧化陶瓷层的性能特点 | 第12页 |
| ·微弧氧化技术的应用 | 第12-13页 |
| ·影响微弧氧化陶瓷膜形成与生长过程的因素 | 第13-15页 |
| ·能量参数的影响 | 第14页 |
| ·基体材质的影响 | 第14页 |
| ·电解液体系的影响 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化电解液研究现状 | 第15-17页 |
| ·电解液的选择 | 第15页 |
| ·溶液体系研究现状 | 第15-16页 |
| ·溶液电导率和pH值的影响 | 第16-17页 |
| ·微弧氧化技术发展存在的主要问题 | 第17页 |
| ·课题研究目的及意义 | 第17-19页 |
| 2 实验设备与实验方法 | 第19-25页 |
| ·试样制备 | 第19-20页 |
| ·试样材料 | 第19页 |
| ·试样尺寸 | 第19页 |
| ·制备方法 | 第19-20页 |
| ·溶质选取与溶液配制 | 第20页 |
| ·溶质的选取 | 第20页 |
| ·溶液的配制 | 第20页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜层制备 | 第20-21页 |
| ·溶液特性的检测与调节 | 第21页 |
| ·溶液的电导率 | 第21页 |
| ·溶液的pH值 | 第21页 |
| ·电化学分析 | 第21-23页 |
| ·IM6e电化学工作站 | 第21-22页 |
| ·极化曲线测量 | 第22页 |
| ·交流阻抗的测定 | 第22页 |
| ·交流阻抗数据处理 | 第22-23页 |
| ·陶瓷膜层性能检测 | 第23-25页 |
| ·陶瓷层的厚度 | 第23页 |
| ·陶瓷层的微观结构观察 | 第23页 |
| ·陶瓷层表面元素含量分析 | 第23-24页 |
| ·微弧氧化膜层相组成分析 | 第24-25页 |
| 3 溶液体系对铝合金微弧氧化起弧过程的影响 | 第25-47页 |
| ·铝合金在不同溶液体系中的成膜过程 | 第25-31页 |
| ·NaCl溶液中的成膜过程 | 第25-26页 |
| ·Na_2SO_4溶液中的成膜过程 | 第26-27页 |
| ·Na_2SiO_3溶液中的成膜过程 | 第27-29页 |
| ·混合溶液中的成膜过程 | 第29-31页 |
| ·有预制备膜铝合金在不同溶液体系中的成膜过程 | 第31-35页 |
| ·NaCl溶液中的成膜过程 | 第31-32页 |
| ·Na_2SO_4溶液中的成膜过程 | 第32页 |
| ·Na_2SiO_3溶液中的成膜过程 | 第32-33页 |
| ·混合溶液中的成膜过程 | 第33-35页 |
| ·铝合金在碳族含氧酸盐溶液中的成膜过程 | 第35-39页 |
| ·三种电解液中的起弧现象 | 第35-36页 |
| ·三种电解液中的电压-时间变化曲线 | 第36页 |
| ·三种电解液中起弧瞬间所得膜层的表面形貌与阻抗值 | 第36-37页 |
| ·三种电解液中微弧氧化处理所得膜层表面形貌分析 | 第37-38页 |
| ·三种电解液中微弧氧化处理所得膜层表面EDS分析 | 第38-39页 |
| ·预制备膜铝合金在碳族含氧酸盐溶液中的成膜过程 | 第39-42页 |
| ·三种电解液中的起弧现象 | 第39-40页 |
| ·三种溶液中起弧瞬间所得膜层的表面形貌 | 第40页 |
| ·三种电解液中电压-时间变化曲线 | 第40-41页 |
| ·微弧氧化膜层表面形貌 | 第41-42页 |
| ·微弧氧化样品表面的相组成 | 第42页 |
| ·三种电解液中微弧氧化成膜机理探讨 | 第42-47页 |
| ·NaCl溶液中的成膜机理分析 | 第43页 |
| ·Na_2SO_4溶液中的成膜机理分析 | 第43-44页 |
| ·Na_2SiO_3溶液中的成膜机理分析 | 第44-45页 |
| ·Na_2SnO_3溶液中的成膜机理分析 | 第45-47页 |
| 4 预制备膜特性对铝合金微弧氧化起弧过程的影响 | 第47-57页 |
| ·Na_2SiO_3溶液浓度对微弧氧化起弧过程的影响 | 第47-50页 |
| ·预制备膜的制备 | 第47页 |
| ·Na_2SiO_3溶液浓度对微弧氧化起弧时间的影响 | 第47页 |
| ·Na_2SiO_3浓度对微弧氧化起弧电压的影响 | 第47-48页 |
| ·起弧瞬间所得膜层的表面形貌 | 第48-49页 |
| ·起弧瞬间所得膜层的阻抗值 | 第49-50页 |
| ·预制备膜种类对微弧氧化起弧过程的影响 | 第50-53页 |
| ·阳极氧化膜对起弧现象的影响 | 第51页 |
| ·化学转化膜对起弧现象的影响 | 第51-53页 |
| ·预制备膜铝合金微弧氧化电压-时间变化曲线 | 第53页 |
| ·预制备膜特性对微弧氧化起弧过程的影响 | 第53-57页 |
| ·预制备膜阻抗值对微弧氧化起弧现象的影响 | 第54-55页 |
| ·预制备膜厚度对微弧氧化起弧现象的影响 | 第55-57页 |
| 5 溶质离子在铝合金微弧氧化陶瓷层形成与生长过程中的作用机理 | 第57-65页 |
| ·微弧氧化过程中电路模型的建立 | 第57页 |
| ·溶质离子在起弧前阻抗膜形成过程中的作用机理 | 第57-60页 |
| ·溶质离子在微弧氧化陶瓷层起弧与生长过程中的作用机理 | 第60-65页 |
| 6 溶液特性对有预制备膜铝合金微弧氧化起弧和生长过程的影响 | 第65-73页 |
| ·溶液电导率对微弧氧化起弧和生长过程的影响 | 第65-68页 |
| ·溶液电导率对微弧氧化起弧现象的影响 | 第66页 |
| ·溶液电导率对微弧氧化陶瓷层生长过程的影响 | 第66-68页 |
| ·溶液pH对微弧氧化起弧过程的影响 | 第68-70页 |
| ·溶液pH对微弧氧化起弧现象的影响 | 第68页 |
| ·溶液pH对微弧氧化陶瓷层生长过程的影响 | 第68-70页 |
| ·适合有预制备膜铝合金微弧氧化电解液开发 | 第70-73页 |
| 7 结论 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-83页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第83页 |
