| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 1 绪论 | 第12-39页 |
| ·引言 | 第12-14页 |
| ·ZnO的基本性质与形态结构 | 第14-18页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第14-15页 |
| ·ZnO的形态结构 | 第15-18页 |
| ·ZnO薄膜的性质和应用 | 第18-23页 |
| ·ZnO薄膜的可见光发射机制 | 第23-34页 |
| ·ZnO薄膜的绿光发射机制 | 第23-30页 |
| ·ZnO薄膜的蓝光发射机制 | 第30-33页 |
| ·ZnO薄膜的紫光发射机制 | 第33-34页 |
| ·ZnO薄膜在紫外光电器件的应用中需要解决的问题 | 第34-35页 |
| ·提高ZnO薄膜紫外发射性能的几种方法 | 第35-37页 |
| ·本文主要研究内容 | 第37-39页 |
| 2 ZnO薄膜的制备方法与表征方法 | 第39-51页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第39-46页 |
| ·分子束外延法 | 第39-40页 |
| ·金属有机化学气相沉积法 | 第40页 |
| ·磁控溅射法 | 第40-41页 |
| ·电子束蒸发法 | 第41-43页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第43-46页 |
| ·ZnO薄膜的表征方法 | 第46-51页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第46-47页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第47-48页 |
| ·激光拉曼散射谱 | 第48页 |
| ·透射和吸收谱 | 第48-49页 |
| ·光致发光谱 | 第49-51页 |
| 3 缓冲层对ZnO薄膜的结构与紫外发射性能的影响 | 第51-69页 |
| ·TiO_2缓冲层对ZnO薄膜的结构与紫外发射性能的影响 | 第51-58页 |
| ·TiO_2缓冲层与ZnO薄膜的制备和表征方法 | 第51-53页 |
| ·TiO_2缓冲层对ZnO薄膜微结构的影响 | 第53-56页 |
| ·TiO_2缓冲层对ZnO薄膜紫外发射性能的影响 | 第56-58页 |
| ·SiO_2缓冲层对ZnO薄膜的结构与紫外发射性能的影响 | 第58-67页 |
| ·预退火处理温度与后退火处理温度的选取原则 | 第58-60页 |
| ·SiO_2缓冲层与ZnO薄膜的制备和ZnO薄膜的表征方法 | 第60-61页 |
| ·SiO_2缓冲层对ZnO薄膜微结构的影响 | 第61-65页 |
| ·SiO_2缓冲层对ZnO薄膜紫外发射性能的影响 | 第65-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 4 TiO_2包覆层对ZnO薄膜的结构与紫外发射性能的影响 | 第69-80页 |
| ·TiO_2纳米颗粒包覆对ZnO薄膜的影响 | 第69-75页 |
| ·TiO_2包覆层与ZnO薄膜的制备及表征方法 | 第70页 |
| ·TiO_2包覆层对ZnO薄膜的结构的影响 | 第70-72页 |
| ·TiO_2包覆层对ZnO薄膜的紫外发射性能的影响 | 第72-75页 |
| ·退火温度对TiO_2-ZnO薄膜的影响 | 第75-79页 |
| ·退火温度对TiO_2-ZnO薄膜结构的影响 | 第75-77页 |
| ·退火温度对TiO_2-ZnO薄膜紫外发射性能的影响 | 第77-79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 5 膜厚对ZnO薄膜的结构与光学性质的影响 | 第80-98页 |
| ·ZnO薄膜的制备与表征方法 | 第80-82页 |
| ·膜厚对ZnO薄膜微结构的影响 | 第82-91页 |
| ·X射线衍射分析 | 第82页 |
| ·原子力显微镜分析 | 第82-91页 |
| ·高C轴取向ZnO薄膜的生长机制 | 第91-94页 |
| ·薄膜的三种生长模式 | 第91-92页 |
| ·溶胶—凝胶法生长C轴择优取向ZnO薄膜的机制 | 第92-94页 |
| ·膜厚对ZnO薄膜光学性质的影响 | 第94-96页 |
| ·本章小结 | 第96-98页 |
| 6 纳米锥ZnO薄膜发光行为的陈化效应 | 第98-104页 |
| ·纳米锥ZnO薄膜的制备及其表征方法 | 第98-99页 |
| ·纳米锥ZnO薄膜的结构性质 | 第99-100页 |
| ·纳米锥ZnO薄膜的光致发光行为的陈化效应 | 第100-103页 |
| ·本章小结 | 第103-104页 |
| 7 总结与展望 | 第104-108页 |
| ·本论文的研究内容与主要结论 | 第104-106页 |
| ·本论文的主要创新点 | 第106页 |
| ·工作展望 | 第106-108页 |
| 致谢 | 第108-109页 |
| 参考文献 | 第109-129页 |
| 附录 | 第129-130页 |
