| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| ·研究背景及意义 | 第9-10页 |
| ·金刚石/压电薄膜/IDT 多层膜高频SAW 器件 | 第10-14页 |
| ·金刚石/ 压电薄膜/IDT 高频SAW 器件的原理和结构 | 第10-13页 |
| ·SAW 器件的h-BN 薄膜/ Diamond 多层膜结构 | 第13-14页 |
| ·国内外研究现状 | 第14-15页 |
| ·本论文结构及其研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 氮化硼的特性与溅射工艺 | 第16-32页 |
| ·氮化硼的结构与性质 | 第16-22页 |
| ·立方氮化硼的性质和应用 | 第17-20页 |
| ·六方氮化硼的性质与应用 | 第20-22页 |
| ·菱形氮化硼的性质 | 第22页 |
| ·纤锌矿氮化硼的性质 | 第22页 |
| ·制备氮化硼薄膜的溅射工艺原理 | 第22-32页 |
| ·溅射的基本原理 | 第22-23页 |
| ·辉光放电 | 第23-25页 |
| ·直流辉光放电 | 第23-24页 |
| ·射频辉光放电 | 第24-25页 |
| ·磁控溅射 | 第25-26页 |
| ·射频溅射的特点 | 第26-27页 |
| ·溅射参量 | 第27-29页 |
| ·溅射技术沉积薄膜的形成过程 | 第29-32页 |
| 第三章 氮化硼薄膜的制备工艺及其表征手段 | 第32-36页 |
| ·氮化硼氮化硼薄膜的制备工艺 | 第32-34页 |
| ·射频磁控溅射系统 | 第32-33页 |
| ·衬底的清洗 | 第33页 |
| ·样品制备 | 第33-34页 |
| ·氮化硼薄膜的表征手段 | 第34-36页 |
| ·傅里叶红外吸收光谱仪（FTIR） | 第34-35页 |
| ·扫描电镜（SEM） | 第35-36页 |
| 第四章 硅衬底上沉积氮化硼薄膜结构特性的研究 | 第36-51页 |
| ·衬底温度对沉积BN 薄膜的影响 | 第36-38页 |
| ·溅射功率对沉积BN 薄膜的影响 | 第38-42页 |
| ·衬底负偏压对沉积BN 薄膜的影响 | 第42-44页 |
| ·工作压强对沉积BN 薄膜的影响 | 第44-47页 |
| ·氮气分压比对沉积BN 薄膜的影响 | 第47-50页 |
| ·总结 | 第50-51页 |
| 第五章 金刚石衬底上沉积BN 薄膜结构特性的研究 | 第51-55页 |
| ·金刚石的结构与性质 | 第51-52页 |
| ·金刚石衬底上沉积BN 薄膜 | 第52-55页 |
| 第六章 总结与展望 | 第55-57页 |
| ·结论 | 第55页 |
| ·展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
