高频大功率声表面波器件的AIN/金刚石多层膜制备及性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| ·声表面波技术及其发展概况 | 第10-15页 |
| ·声表面波器件的基本结构和工作原理 | 第10-11页 |
| ·声表面波技术特点 | 第11页 |
| ·国外声表面波技术的发展概况 | 第11-14页 |
| ·我国声表面波技术十年来的发展历程 | 第14-15页 |
| ·基础理论的研究 | 第14页 |
| ·我国声表面波应用状况 | 第14页 |
| ·我国SAW 技术未来十年的发展趋势 | 第14-15页 |
| ·本课题研究意义及主要工作 | 第15-16页 |
| ·本章小结 | 第16-17页 |
| 第二章 氮化铝的性质及其制备方法 | 第17-25页 |
| ·氮化铝性质 | 第17-18页 |
| ·氮化铝薄膜制备方法 | 第18-24页 |
| ·溅射原理 | 第19页 |
| ·磁控溅射 | 第19-20页 |
| ·射频溅射 | 第20-22页 |
| ·溅射参量 | 第22-23页 |
| ·溅射阈值 | 第22页 |
| ·溅射率 | 第22-23页 |
| ·溅射粒子的能量与速度 | 第23页 |
| ·溅射过程 | 第23-24页 |
| ·靶材的溅射 | 第23页 |
| ·溅射粒子的迁移过程 | 第23-24页 |
| ·溅射粒子的成膜过程 | 第24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第三章 氮化铝薄膜的制备工艺及其表征手段 | 第25-28页 |
| ·氮化铝薄膜的制备工艺 | 第25-27页 |
| ·实验装置 | 第25-26页 |
| ·靶材的选择 | 第26页 |
| ·衬底的清洗 | 第26页 |
| ·靶材预处理 | 第26页 |
| ·薄膜的制备 | 第26-27页 |
| ·氮化铝薄膜的表征手段——X 射线衍射（XRD） | 第27-28页 |
| 第四章 硅衬底上沉积氮化铝薄膜的生长特性的研究 | 第28-49页 |
| ·硅衬底上ALN 薄膜的表征 | 第28-29页 |
| ·ALN 薄膜取向生长机理 | 第29-31页 |
| ·关于生长机理的两种观点 | 第29页 |
| ·关于薄膜生长择优取向分析 | 第29-31页 |
| ·AlN 薄膜择优取向生长的热力学理论 | 第29-30页 |
| ·AlN 薄膜择优取向的动力学理论模型 | 第30-31页 |
| ·沉积参数对氮化铝薄膜生长特性的影响 | 第31-48页 |
| ·溅射功率对沉积氮化铝薄膜的影响 | 第31-34页 |
| ·工作压强对沉积氮化铝薄膜的影响 | 第34-37页 |
| ·负偏压对沉积氮化铝薄膜的影响 | 第37-40页 |
| ·衬底温度对氮化铝薄膜性能的影响 | 第40-42页 |
| ·氩氮比对沉积氮化铝薄膜的影响 | 第42-46页 |
| ·不同取向的衬底对沉积氮化铝薄膜的影响 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 金刚石衬底上沉积氮化铝薄膜 | 第49-53页 |
| ·金刚石的结构与性质 | 第49页 |
| ·金刚石衬底的表征 | 第49-50页 |
| ·金刚石上氮化铝薄膜的制备与表征 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第六章 结论与展望 | 第53-55页 |
| ·结论 | 第53-54页 |
| ·展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
