摘要 | 第3-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-25页 |
1.1 前言 | 第10页 |
1.2 稀土锰氧化物材料研究的历史及现状 | 第10-12页 |
1.3 庞磁电阻(CMR)稀土锰氧化物的基本物理特征 | 第12-19页 |
1.3.1 稀土锰氧化物的晶体结构 | 第13-15页 |
1.3.2 稀土锰氧化物的电子结构 | 第15页 |
1.3.3 稀土锰氧化物的能带结构 | 第15-17页 |
1.3.4 钙钛矿锰氧化物的电荷/轨道有序 | 第17-18页 |
1.3.5 锰氧化物的磁输运性质 | 第18-19页 |
1.4 庞磁电阻(CMR)效应的物理机制 | 第19-23页 |
1.4.1 双交换模型 | 第19-20页 |
1.4.2 Jahn-Teller效应 | 第20-21页 |
1.4.3 磁畴原理 | 第21-22页 |
1.4.4 自旋极化散射 | 第22页 |
1.4.5 电子相分离 | 第22-23页 |
1.5 本文的选题意义及主要工作 | 第23-25页 |
第二章 样品制备及性能测试 | 第25-31页 |
2.1 材料制备 | 第25页 |
2.1.1 固相反应法 | 第25页 |
2.1.2 体材料(靶材)的制备 | 第25页 |
2.2 薄膜的制备 | 第25-28页 |
2.2.1 薄膜制备方法 | 第25-26页 |
2.2.2 磁控溅射 | 第26-27页 |
2.2.3 薄膜溅射条件 | 第27页 |
2.2.4 薄膜热处理 | 第27-28页 |
2.3 分析测试 | 第28-31页 |
2.3.1 物相结构测试 | 第28页 |
2.3.2 表面形貌测试 | 第28页 |
2.3.3 磁电阻(MR)的测试 | 第28-29页 |
2.3.4 X射线光电子能谱(XPS)测试 | 第29页 |
2.3.5 红外吸收谱测试 | 第29页 |
2.3.6 微波吸收强度的测试 | 第29-31页 |
第三章 La_(2/3)Sr_(1/3)MnO_3掺杂RE(Pr,Eu,Y,Tb)的结构、红外及磁性质 | 第31-38页 |
3.1 概述 | 第31页 |
3.2 样品制备及测试 | 第31-32页 |
3.3 结果与讨论 | 第32-37页 |
3.3.1 晶体结构与畸变 | 第32-34页 |
3.3.2 红外吸收光谱 | 第34-35页 |
3.3.3 磁性质 | 第35-37页 |
3.4 小结 | 第37-38页 |
第四章 (La_(1-x)Dy_x)_(2/3)Sr_(1/3)MnO_3的微结构特征、微波吸收及红外吸收特性 | 第38-47页 |
4.1 概述 | 第38页 |
4.2 样品制备及测试 | 第38页 |
4.3 结果与讨论 | 第38-46页 |
4.3.1 晶体结构与畸变 | 第38-41页 |
4.3.2 红外吸收光谱 | 第41-42页 |
4.3.3 微波吸收特性 | 第42-46页 |
4.4 小结 | 第46-47页 |
第五章 (LaNd)SrMnO_3/SrTiO_3(100)薄膜的结构及对其磁性质的影响 | 第47-57页 |
5.1 概述 | 第47页 |
5.2 样品的制备 | 第47-48页 |
5.2.1 靶材制备 | 第47页 |
5.2.2 基片清洗 | 第47-48页 |
5.2.3 磁控溅射制备薄膜 | 第48页 |
5.2.4 薄膜退火处理 | 第48页 |
5.3 结果与讨论 | 第48-56页 |
5.3.1 薄膜的结构 | 第48-51页 |
5.3.2 薄膜的XPS分析 | 第51-55页 |
5.3.3 薄膜的磁性质 | 第55-56页 |
5.4 小结 | 第56-57页 |
第六章 Zn掺杂LaMnO_3和La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_(3-δ)薄膜的结构及磁性质 | 第57-69页 |
6.1 概述 | 第57页 |
6.2 样品的制备 | 第57-58页 |
6.2.1 靶材制备 | 第57页 |
6.2.2 基片清洗 | 第57页 |
6.2.3 磁控溅射镀膜 | 第57-58页 |
6.2.4 退火处理 | 第58页 |
6.3 结果及讨论 | 第58-68页 |
6.3.1 靶材及薄膜的结构 | 第58-60页 |
6.3.2 薄膜形貌 | 第60-62页 |
6.3.3 薄膜的光电子能谱(XPS) | 第62-67页 |
6.3.4 薄膜的磁性质 | 第67-68页 |
6.4 小结 | 第68-69页 |
第七章 全文总结 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
攻读博士期间科研成果 | 第78-79页 |