| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 引言 | 第9-12页 |
| 1.1.1 真空开关的发展历史 | 第9-10页 |
| 1.1.2 真空开关的发展现状 | 第10-11页 |
| 1.1.3 我国真空开关发展现状 | 第11-12页 |
| 1.2 课题研究背景及意义 | 第12-13页 |
| 1.3 真空开关基本结构及工作原理 | 第13-16页 |
| 1.3.1 真空开关基本结构 | 第13-15页 |
| 1.3.2 真空开关工作原理 | 第15-16页 |
| 第二章 磁控灭弧技术在真空开关中的应用 | 第16-23页 |
| 2.1 真空放电现象及电弧形态 | 第16-20页 |
| 2.1.1 真空电弧的产生 | 第16-18页 |
| 2.1.2 真空电弧燃烧过程 | 第18-19页 |
| 2.1.3 电弧形态 | 第19-20页 |
| 2.2 磁控灭弧技术对电弧形态的影响作用 | 第20-22页 |
| 2.2.1 横磁场对电弧形态的影响作用 | 第20-21页 |
| 2.2.2 纵磁场对电弧形态的影响作用 | 第21-22页 |
| 本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 新型真空灭弧室结构的分析 | 第23-29页 |
| 3.1 新型真空灭弧室的基本结构分析 | 第23页 |
| 3.2 绝缘外壳 | 第23-24页 |
| 3.3 屏蔽罩 | 第24-26页 |
| 3.4 触头系统 | 第26-27页 |
| 3.5 其他辅助零部件结构分析 | 第27-28页 |
| 本章小结 | 第28-29页 |
| 第四章 新型真空灭弧室内电场分布的仿真分析 | 第29-49页 |
| 4.1 电磁场有限元分析基础 | 第29-31页 |
| 4.1.1 二维电磁场基础理论 | 第29-31页 |
| 4.1.2 三维电磁场有限元基础 | 第31页 |
| 4.2 新型真空灭弧室二维电场有限元仿真分析 | 第31-46页 |
| 4.2.1 新型真空灭弧室二维仿真模型的建立 | 第31-34页 |
| 4.2.2 新型真空灭弧室二维电场分布分析 | 第34-36页 |
| 4.2.3 屏蔽罩结构参数对电场分布的影响 | 第36-44页 |
| 4.2.4 触头边缘倒角对电场分布的影响 | 第44-46页 |
| 4.3 新型真空灭弧室优化后的结构分析 | 第46-48页 |
| 本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 新型真空灭弧室触头结构对磁场分布的影响仿真分析 | 第49-68页 |
| 5.1 触头系统结构仿真模型的建立 | 第49-54页 |
| 5.1.1 模型前处理 | 第51-53页 |
| 5.1.2 载荷施加 | 第53-54页 |
| 5.1.3 求解及后处理 | 第54页 |
| 5.2 触头片的结构参数的变化对磁场分布的影响 | 第54-61页 |
| 5.2.1 触头片开槽数对磁场分布的影响 | 第56-59页 |
| 5.2.2 触头片开槽长度对磁场分布的影响 | 第59-60页 |
| 5.2.3 触头片开槽宽度对磁场分布的影响 | 第60-61页 |
| 5.2.4 触头片开槽偏角对磁场分布的影响 | 第61页 |
| 5.3 铁芯结构的变化对磁场分布的影响 | 第61-66页 |
| 5.3.1 有无铁芯对磁场分布的影响 | 第61-62页 |
| 5.3.2 不同铁芯模型的建立 | 第62-63页 |
| 5.3.3 铁芯长度对磁场分布的影响 | 第63-64页 |
| 5.3.4 铁芯直径对磁场分布的影响 | 第64页 |
| 5.3.5 铁芯形状对磁场分布的影响 | 第64-65页 |
| 5.3.6 铁芯分布对磁场分布的影响 | 第65-66页 |
| 本章小结 | 第66-68页 |
| 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |