| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第15-44页 |
| 1.1 研究背景 | 第15-17页 |
| 1.2 Si-B-C-N陶瓷的制备方法 | 第17-20页 |
| 1.2.1 有机法 | 第17-18页 |
| 1.2.2 无机法 | 第18-20页 |
| 1.2.3 无机法与有机法的对比 | 第20页 |
| 1.3 Si-B-C-N陶瓷的组织结构及其热稳定性 | 第20-25页 |
| 1.3.1 Si-B-C-N陶瓷的组织结构特征 | 第20-23页 |
| 1.3.2 无机法制备Si-B-C-N陶瓷的热稳定性 | 第23-25页 |
| 1.4 Si-B-C-N非晶陶瓷的晶化行为 | 第25-29页 |
| 1.4.1 无机法制备Si-B-C-N陶瓷在烧结过程中的组织结构演变 | 第25-26页 |
| 1.4.2 化学成分对Si-B-C-N陶瓷晶化行为的影响 | 第26-29页 |
| 1.5 Si-B-C-N陶瓷的性能特点 | 第29-39页 |
| 1.5.1 力学性能 | 第29-32页 |
| 1.5.2 高温氧化性能 | 第32-39页 |
| 1.6 高压烧结技术 | 第39-42页 |
| 1.6.1 高压烧结法简介 | 第39-40页 |
| 1.6.2 高压烧结陶瓷研究进展 | 第40-42页 |
| 1.7 本文的研究目的和主要研究内容 | 第42-44页 |
| 第2章 试验材料与研究方法 | 第44-52页 |
| 2.1 试验用原材料 | 第44-45页 |
| 2.2 Si-B-C-N粉体及块体陶瓷的制备方法 | 第45-47页 |
| 2.2.1 机械化学合成Si-B-C-N非晶粉体 | 第45页 |
| 2.2.2 高压烧结制备Si-B-C-N块体陶瓷 | 第45-47页 |
| 2.3 材料分析测试方法 | 第47-50页 |
| 2.3.1 化学成分及物相鉴定 | 第47页 |
| 2.3.2 微观组织结构观察 | 第47页 |
| 2.3.3 原子价键表征 | 第47-48页 |
| 2.3.4 力学性能测试 | 第48-50页 |
| 2.3.5 热分析测试 | 第50页 |
| 2.4 高温氧化性能研究 | 第50-51页 |
| 2.5 第一性原理计算 | 第51-52页 |
| 第3章 高压烧结对Si-B-C-N陶瓷组织结构和性能的影响 | 第52-67页 |
| 3.1 机械合金化制备Si-B-C-N非晶陶瓷粉体 | 第52-57页 |
| 3.1.1 化学成分与微观结构 | 第52-55页 |
| 3.1.2 粉体形貌分析 | 第55-56页 |
| 3.1.3 LaB_6/Si-B-C-N复合粉体的形貌特征 | 第56-57页 |
| 3.2 放电等离子烧结制备Si-B-C-N(La)块体陶瓷 | 第57-59页 |
| 3.2.1 物相和组织形貌演变 | 第57-59页 |
| 3.2.2 密度和力学性能 | 第59页 |
| 3.3 高压烧结制备Si_2BC_3N块体陶瓷 | 第59-66页 |
| 3.3.1 高压烧结温度对Si_2BC_3N块体陶瓷物相组成的影响 | 第59-60页 |
| 3.3.2 高压烧结温度对Si_2BC_3N块体陶瓷致密度的影响 | 第60-63页 |
| 3.3.3 高压烧结温度对Si_2BC_3N块体陶瓷力学性能的影响 | 第63-65页 |
| 3.3.4 高压烧结压力对Si_2BC_3N陶瓷密度和力学性能的影响 | 第65-66页 |
| 3.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 第4章 高压烧结Si_2BC_3N非晶陶瓷的晶化过程与机制 | 第67-91页 |
| 4.1 高压烧结温度对Si_2BC_3N非晶陶瓷晶化过程的影响 | 第67-80页 |
| 4.1.1 物相变化 | 第67-68页 |
| 4.1.2 微观结构演变 | 第68-76页 |
| 4.1.3 价键变化 | 第76-80页 |
| 4.2 高压烧结压力对Si_2BC_3N非晶陶瓷晶化过程的影响 | 第80-84页 |
| 4.2.1 物相变化 | 第80-81页 |
| 4.2.2 微观结构演变 | 第81-84页 |
| 4.3 高压条件下Si_2BC_3N非晶陶瓷的晶化机制 | 第84-89页 |
| 4.3.1 常压条件下热力学分析 | 第84-85页 |
| 4.3.2 高压条件下热力学分析 | 第85-89页 |
| 4.4 本章小结 | 第89-91页 |
| 第5章 高压烧结Si_2BC_3N非晶陶瓷的高温氧化行为机制 | 第91-113页 |
| 5.1 氧化实验方案设计 | 第91-93页 |
| 5.1.1 氧化热力学计算 | 第91-92页 |
| 5.1.2 热重分析 | 第92-93页 |
| 5.2 抗氧化性能 | 第93-97页 |
| 5.2.1 Si_2BC_3N陶瓷的抗氧化性能 | 第93-95页 |
| 5.2.2 SiC和Si_3N_4块体陶瓷的抗氧化性能 | 第95-97页 |
| 5.3 氧化层物相鉴定 | 第97-98页 |
| 5.4 氧化层微观组织结构特征 | 第98-104页 |
| 5.4.1 氧化层表面和截面形貌 | 第98-101页 |
| 5.4.2 截面微观结构 | 第101-103页 |
| 5.4.3 表面氧化层的原子成键状态 | 第103-104页 |
| 5.5 氧化动力学 | 第104-106页 |
| 5.6 氧化层生长机制 | 第106-109页 |
| 5.7 非晶Si_2BC_3N块体陶瓷的氧化损伤机制 | 第109-110页 |
| 5.8 非晶/纳米晶SiC块体陶瓷的氧化层特征 | 第110-111页 |
| 5.9 本章小结 | 第111-113页 |
| 结论 | 第113-115页 |
| 参考文献 | 第115-129页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第129-133页 |
| 致谢 | 第133-135页 |
| 个人简历 | 第135页 |
