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基于CMOS的莫尔条纹纳米级细分研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-12页
    1.1 课题研究背景及意义第9-10页
    1.2 纳米级光栅位移测量发展现状第10页
    1.3 课题主要研究内容第10-12页
第2章 莫尔条纹位移测量原理第12-15页
    2.1 莫尔条纹的形成及特点第12-13页
    2.2 光栅位移测量原理第13-14页
    2.3 本章小结第14-15页
第3章 CMOS 莫尔条纹细分原理第15-33页
    3.1 传统莫尔条纹细分方法第15-19页
        3.1.1 幅值细分第15-17页
        3.1.2 相位细分第17-18页
        3.1.3 CCD 细分第18-19页
    3.2 CMOS 纳米级细分原理第19-32页
        3.2.1 CMOS 细分第19-22页
        3.2.2 校正 MPFFT 测相算法第22-32页
    3.3 本章小结第32-33页
第4章 莫尔条纹图像采集系统设计第33-44页
    4.1 光学模块第33-34页
    4.2 图像采集模块第34-42页
        4.2.1 CMOS 传感器及分类第34-35页
        4.2.2 DLIS_2K 线阵 CMOS 传感器第35-37页
        4.2.3 DLIS_2K 驱动和配置第37-42页
    4.3 FPGA 信号产生与处理模块第42-43页
    4.4 本章小结第43-44页
第5章 光栅位移测量算法实现第44-56页
    5.1 校正 MPFFT 模块设计第44-53页
        5.1.1 MPFFT 模块第45-52页
        5.1.2 相位校正模块第52-53页
    5.2 位移量计算模块设计第53-55页
    5.3 本章小结第55-56页
第6章 系统调试第56-59页
    6.1 FPGA 电路调试第56-58页
    6.2 CMOS 电路调试第58页
    6.3 本章小结第58-59页
第7章 结论第59-61页
参考文献第61-64页
在学研究成果第64-65页
致谢第65页

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