| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 课题背景 | 第11-13页 |
| 1.1.1 飞秒激光的简介 | 第11-12页 |
| 1.1.2 电化学的简介 | 第12-13页 |
| 1.2 表面微纳复合结构研究的背景及意义 | 第13-14页 |
| 1.3 表面微纳复合结构的应用研究 | 第14-15页 |
| 1.4 表面微纳复合结构的制备方法 | 第15-18页 |
| 1.4.1 脉冲激光制备功能性微纳表面的研究进展 | 第15-16页 |
| 1.4.2 电化学制备功能性微纳表面的研究进展 | 第16-18页 |
| 1.5 本课题的研究内容 | 第18-21页 |
| 1.5.1 研究内容 | 第18页 |
| 1.5.2 论文简介 | 第18-21页 |
| 第2章 飞秒激光加工金属材料和电化学生长的理论基础 | 第21-35页 |
| 2.1 飞秒激光烧蚀材料的物理过程 | 第21-22页 |
| 2.2 超快激光与材料相互作用多尺度模型 | 第22-24页 |
| 2.3 飞秒激光与材料相互作用机理 | 第24-29页 |
| 2.3.1 飞秒激光与金属材料相互作用机理 | 第24-27页 |
| 2.3.2 飞秒激光与电介质材料相互作用机理 | 第27-29页 |
| 2.4 电化学沉积法 | 第29-33页 |
| 2.4.1 电化学沉积微纳米材料 | 第29-30页 |
| 2.4.2 电化学沉积微纳米材料的方法和原理 | 第30-32页 |
| 2.4.3 直流电沉积的过程 | 第32-33页 |
| 2.4.4 影响电化学沉积的因素 | 第33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-35页 |
| 第3章 飞秒激光加工与电化学生长实验装置 | 第35-47页 |
| 3.1 飞秒激光加工实验系统 | 第35-39页 |
| 3.1.1 飞秒激光系统 | 第35-36页 |
| 3.1.2 六自由度高精密移动平台 | 第36-37页 |
| 3.1.3 计算机控制系统 | 第37-38页 |
| 3.1.4 CCD成像系统及其他元件 | 第38-39页 |
| 3.2 电化学生长实验装置 | 第39-43页 |
| 3.2.1 赫尔槽 | 第40-42页 |
| 3.2.2 数字源表 | 第42-43页 |
| 3.3 表征手段 | 第43-45页 |
| 3.3.1 扫描电子显微镜（SEM） | 第43-44页 |
| 3.3.2 X射线能谱仪（EDAX） | 第44-45页 |
| 3.3.3 原子力显微镜（AFM） | 第45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-47页 |
| 第4章 飞秒激光诱导金属铜表面烧蚀弹坑的研究 | 第47-59页 |
| 4.1 引言 | 第47-48页 |
| 4.2 飞秒激光加工金属铜的烧蚀特性 | 第48-57页 |
| 4.2.1 烧蚀阈值的确定 | 第48-49页 |
| 4.2.2 脉冲个数对烧蚀形貌的影响 | 第49-50页 |
| 4.2.3 能量密度对烧蚀形貌的影响 | 第50-52页 |
| 4.2.4 激光偏振对烧蚀形貌的影响 | 第52-53页 |
| 4.2.5 脉冲个数对烧蚀尺寸的影响 | 第53-54页 |
| 4.2.6 能量密度对烧蚀尺寸的影响 | 第54-56页 |
| 4.2.7 掩膜对烧蚀尺寸的影响 | 第56-57页 |
| 4.3 本章小结 | 第57-59页 |
| 第5章 表面微纳复合结构的构筑 | 第59-75页 |
| 5.1 引言 | 第59页 |
| 5.2 设计思路 | 第59-60页 |
| 5.3 实验过程 | 第60-67页 |
| 5.3.1 铜基表面镀膜 | 第60页 |
| 5.3.2 飞秒激光烧蚀镀膜 | 第60-64页 |
| 5.3.3 电化学沉积-微米结构 | 第64-66页 |
| 5.3.4 还原金属银-纳米结构 | 第66页 |
| 5.3.5 表面硅烷化修饰 | 第66-67页 |
| 5.4 表面微米结构形貌调控 | 第67-71页 |
| 5.4.1 飞秒激光参数对表面形貌的影响 | 第67-69页 |
| 5.4.2 电化学生长参数对表面形貌的影响 | 第69-71页 |
| 5.5 表面纳米结构形貌调控 | 第71-73页 |
| 5.6 表面接触角测试 | 第73-74页 |
| 5.7 本章小结 | 第74-75页 |
| 总结与展望 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-84页 |
| 攻读学位期间发表的论文与研究成果清单 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |