NdFeB磁体表面磁控溅射沉积Al-Mn膜技术研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 NdFeB磁体的发展现状 | 第10页 |
| 1.2 NdFeB磁体的性能 | 第10-11页 |
| 1.3 NdFeB磁体的应用 | 第11-13页 |
| 1.4 NdFeB磁体的防腐 | 第13-18页 |
| 1.4.1 烧结钕铁硼磁体的组成和微观结构 | 第13页 |
| 1.4.2 钕铁硼磁体的腐蚀机理 | 第13-14页 |
| 1.4.3 钕铁硼磁体防腐办法 | 第14-18页 |
| 1.5 磁控溅射技术及其铝锰合金薄膜的制备 | 第18-21页 |
| 1.5.1 磁控溅射原理 | 第18-19页 |
| 1.5.2 磁控溅射制备铝锰合金薄膜 | 第19-21页 |
| 1.6 课题的提出及研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 镀膜实验方法和薄膜分析方法 | 第22-29页 |
| 2.1 实验准备和实验方法 | 第22-23页 |
| 2.1.1 基体材料及预处理 | 第22页 |
| 2.1.2 磁控溅射镀膜技术工艺 | 第22-23页 |
| 2.2 实验设备 | 第23-24页 |
| 2.3 分析方法 | 第24-26页 |
| 2.3.1 微观结构和成分测定 | 第24页 |
| 2.3.2 物相分析 | 第24-25页 |
| 2.3.3 耐腐蚀性能分析 | 第25-26页 |
| 2.4 薄膜力学性能分析 | 第26-28页 |
| 2.4.1 结合力 | 第27-28页 |
| 2.4.2 摩擦性能 | 第28页 |
| 2.4.3 硬度测量 | 第28页 |
| 2.5 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 镀膜工艺参数研究 | 第29-40页 |
| 3.1 正交实验设计 | 第29-32页 |
| 3.1.1 镀膜工艺参数分析 | 第29-30页 |
| 3.1.2 试验参数设计 | 第30-32页 |
| 3.2 正交试验结果分析 | 第32-39页 |
| 3.2.1 正交试验结果 | 第32-34页 |
| 3.2.2 靶材锰块数对耐蚀性的影响 | 第34-35页 |
| 3.2.3 偏压对耐蚀性的影响 | 第35-36页 |
| 3.2.4 靶基距对耐蚀性的影响 | 第36-37页 |
| 3.2.5 靶电流对耐蚀性的影响 | 第37-38页 |
| 3.2.6 Ar气压对耐蚀性的影响 | 第38-39页 |
| 3.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 拼接靶制备薄膜腐蚀机理及性能研究 | 第40-51页 |
| 4.1 靶材锰含量对耐蚀性能的影响 | 第40-44页 |
| 4.1.1 靶材成分与薄膜成分 | 第40-41页 |
| 4.1.2 薄膜表面形貌分析 | 第41-43页 |
| 4.1.3 薄膜相结构分析 | 第43-44页 |
| 4.2 薄膜耐蚀性 | 第44-46页 |
| 4.3 薄膜力学性能研究 | 第46-49页 |
| 4.3.1 薄膜锰含量对硬度的影响 | 第46-47页 |
| 4.3.2 铝锰合金薄膜的结合力 | 第47-48页 |
| 4.3.3 铝锰合金薄膜的摩擦性能 | 第48-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-51页 |
| 第5章 熔炼靶制备薄膜性能研究 | 第51-62页 |
| 5.1 熔炼靶材锰含量分析 | 第51-54页 |
| 5.1.1 靶材成分与薄膜成分 | 第51-52页 |
| 5.1.2 薄膜成分对表面形貌结构的影响 | 第52-54页 |
| 5.2 薄膜耐腐蚀性 | 第54-58页 |
| 5.2.1 电化学分析 | 第54-56页 |
| 5.2.2 盐雾试验分析 | 第56-58页 |
| 5.3 薄膜的力学性能研究 | 第58-61页 |
| 5.3.1 薄膜的结合力 | 第58-59页 |
| 5.3.2 薄膜的硬度 | 第59-60页 |
| 5.3.3 铝锰合金薄膜的摩擦性能 | 第60-61页 |
| 5.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 导师简介 | 第69-70页 |
| 作者简介 | 第70-71页 |
| 学位论文数据集 | 第71页 |
