微结构滤光片的研制
| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第9-11页 |
| 1.2 微结构滤光片的研制现状 | 第11-13页 |
| 1.3 课题主要工作 | 第13-16页 |
| 1.3.1 主要研究内容及重点 | 第13-14页 |
| 1.3.2 课题研究方案 | 第14-15页 |
| 1.3.3 论文章节安排 | 第15-16页 |
| 1.4 小结 | 第16-17页 |
| 2 工艺技术及理论基础 | 第17-31页 |
| 2.1 F-P滤光片的制备基础 | 第17-24页 |
| 2.1.1 全介质F-P滤光片 | 第17-21页 |
| 2.1.2 PECVD技术 | 第21-22页 |
| 2.1.3 主要测试分析设备 | 第22-24页 |
| 2.2 微纳加工技术 | 第24-28页 |
| 2.2.1 常见微光学元件的制备方法 | 第24-26页 |
| 2.2.2 光刻技术 | 第26-28页 |
| 2.2.3 ICP刻蚀技术 | 第28页 |
| 2.3 复形性 | 第28-30页 |
| 2.4 小结 | 第30-31页 |
| 3 微结构滤光片的设计 | 第31-45页 |
| 3.1 掩模板设计 | 第31-33页 |
| 3.2 光刻图形化 | 第33-38页 |
| 3.2.1 图形化工艺流程 | 第33-34页 |
| 3.2.2 图形化工艺研究 | 第34-38页 |
| 3.3 膜系设计及分析 | 第38-43页 |
| 3.3.1 膜系设计 | 第38-42页 |
| 3.3.2 允差分析 | 第42-43页 |
| 3.4 小结 | 第43-45页 |
| 4 滤光片膜系的镀制及测试 | 第45-55页 |
| 4.1 单层膜稳定性实验 | 第45-48页 |
| 4.1.1 单层SiO_x薄膜稳定性实验 | 第45-46页 |
| 4.1.2 单层SiN_x薄膜稳定性实验 | 第46-48页 |
| 4.2 单层膜稳定性对膜系的影响 | 第48-50页 |
| 4.3 滤光片的镀制 | 第50-52页 |
| 4.4 样片的测试和分析 | 第52-54页 |
| 4.5 小结 | 第54-55页 |
| 5 微结构滤光片的制备 | 第55-65页 |
| 5.1 复形性探究 | 第55-61页 |
| 5.1.1 初步探究 | 第55-56页 |
| 5.1.2 复形性探究过程 | 第56-58页 |
| 5.1.3 复形性探究的结果 | 第58-61页 |
| 5.2 微结构滤光片的制备过程 | 第61-63页 |
| 5.3 结果及分析 | 第63-64页 |
| 5.4 小结 | 第64-65页 |
| 6 结论及展望 | 第65-67页 |
| 6.1 结论 | 第65页 |
| 6.2 展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
