| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-36页 |
| 1.1 课题研究的背景和目的 | 第12-14页 |
| 1.2 表面等离激元概述 | 第14-20页 |
| 1.2.1 表面等离激元发展历史 | 第14-16页 |
| 1.2.2 表面等离激元基本原理 | 第16-20页 |
| 1.3 表面等离激元纳米激光器研究现状 | 第20-33页 |
| 1.3.1 基于SPPs的纳米激光器研究现状 | 第21-30页 |
| 1.3.2 基于LSPs的纳米激光器研究现状 | 第30-33页 |
| 1.4 本研究领域存在的关键技术问题和科学问题 | 第33页 |
| 1.5 课题研究来源及主要研究内容 | 第33-36页 |
| 第2章 表面等离激元激光器的基本理论 | 第36-50页 |
| 2.1 引言 | 第36页 |
| 2.2 表面等离激元激光器的模式特征 | 第36-39页 |
| 2.3 表面等离激元激光器的自发辐射增强特性 | 第39-43页 |
| 2.3.1 自发辐射因子 | 第39-40页 |
| 2.3.2 Purcell效应 | 第40-43页 |
| 2.4 表面等离激元激光器的瞬态特性 | 第43-47页 |
| 2.5 表面等离激元激光器的损耗特性 | 第47-49页 |
| 2.6 本章小结 | 第49-50页 |
| 第3章 表面等离激元激光器中的单晶银薄膜研究 | 第50-62页 |
| 3.1 引言 | 第50页 |
| 3.2 金属薄膜制备基本理论 | 第50-54页 |
| 3.2.1 成核阶段 | 第51-52页 |
| 3.2.2 合并阶段 | 第52页 |
| 3.2.3 厚度生长阶段 | 第52-54页 |
| 3.3 单晶银薄膜加工研究 | 第54-61页 |
| 3.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 第4章 金属薄膜质量对表面等离激元激光器的性能影响研究 | 第62-80页 |
| 4.1 引言 | 第62页 |
| 4.2 表面等离激元激光器制备及表征系统 | 第62-72页 |
| 4.2.1 ZnO纳米线合成 | 第62-64页 |
| 4.2.2 银薄膜制备 | 第64-68页 |
| 4.2.3 表面等离激元激光器制备 | 第68-70页 |
| 4.2.4 表面等离激元激光器的表征系统 | 第70-72页 |
| 4.3 基于不同银薄膜的表面等离激元激光器性能测试 | 第72-77页 |
| 4.4 表面等离激元激光器损耗分析 | 第77-79页 |
| 4.5 本章小结 | 第79-80页 |
| 第5章 基于钙钛矿纳米线的表面等离激元激光器研究 | 第80-102页 |
| 5.1 引言 | 第80页 |
| 5.2 有机-无机杂化型钙钛矿材料的增益机理 | 第80-83页 |
| 5.3 高质量单晶CH_3NH_3PbI_3钙钛矿纳米线合成及表征 | 第83-89页 |
| 5.3.1 CH_3NH_3PbI_3钙钛矿纳米线合成 | 第83-85页 |
| 5.3.2 CH_3NH_3PbI_3钙钛矿纳米线形貌及结构表征 | 第85-88页 |
| 5.3.3 CH_3NH_3PbI_3钙钛矿纳米线光学性质表征 | 第88-89页 |
| 5.4 基于CH_3NH_3PbI_3纳米线的表面等离激元激光器制备及表征 | 第89-100页 |
| 5.4.1 CH_3NH_3PbI_3纳米线表面等离激元激光器制备 | 第89-90页 |
| 5.4.2 CH_3NH_3PbI_3纳米线表面等离激元激光器稳态光谱表征 | 第90-93页 |
| 5.4.3 CH_3NH_3PbI_3纳米线表面等离激元激光器几何尺寸表征 | 第93-96页 |
| 5.4.4 CH_3NH_3PbI_3纳米线表面等离激元激光器Purcell因子计算 | 第96-97页 |
| 5.4.5 CH_3NH_3PbI_3纳米线表面等离激元激光器时间分辨光谱表征 | 第97-99页 |
| 5.4.6 CH_3NH_3PbI_3纳米线表面等离激元激光器温度稳定性表征 | 第99-100页 |
| 5.5 本章小结 | 第100-102页 |
| 结论 | 第102-105页 |
| 参考文献 | 第105-116页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第116-118页 |
| 致谢 | 第118-119页 |
| 个人简历 | 第119页 |
