| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-28页 |
| ·引言 | 第10-12页 |
| ·类石墨氮化碳(g-C_3N_4)的概述 | 第12-23页 |
| ·g-C_3N_4的发展 | 第12页 |
| ·g-C_3N_4的结构及性质 | 第12-15页 |
| ·g-C_3N_4的制备方法 | 第15-16页 |
| ·提高g-C_3N_4催化活性的途径 | 第16-20页 |
| ·形貌调控 | 第16-17页 |
| ·元素掺杂 | 第17-18页 |
| ·贵金属负载 | 第18-19页 |
| ·搭载碳基材料 | 第19页 |
| ·半导体复合 | 第19-20页 |
| ·g-C_3N_4的应用 | 第20-23页 |
| ·光催化降解污染物 | 第21-22页 |
| ·光催化水解 | 第22页 |
| ·光致还原CO_2 | 第22页 |
| ·其他 | 第22-23页 |
| ·稀土上转换发光材料的简介 | 第23-26页 |
| ·本课题的研究意义和研究内容 | 第26-28页 |
| ·研究意义 | 第26页 |
| ·研究内容 | 第26-28页 |
| 第二章 可见光响应g-C_3N_4/Bi_2WO_6复合光催化剂的制备及光催化性能的研究 | 第28-48页 |
| ·前言 | 第28-29页 |
| ·实验部分 | 第29-33页 |
| ·实验仪器及试剂 | 第29-31页 |
| ·光催化剂的制备 | 第31页 |
| ·光催化剂的表征 | 第31-33页 |
| ·光催化性能的研究 | 第33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-47页 |
| ·X射线粉末衍射(XRD)分析 | 第33-34页 |
| ·红外光谱(FT-IR)分析 | 第34-35页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第35-36页 |
| ·透射电镜(TEM、HRTEM、EDS)分析 | 第36-39页 |
| ·紫外可见吸收光谱(UV-vis)分析 | 第39-40页 |
| ·荧光光谱(PL)分析 | 第40页 |
| ·光电流(i-t)分析 | 第40-41页 |
| ·光催化性能研究 | 第41-43页 |
| ·光催化剂重复使用性 | 第43-44页 |
| ·可能的光催化机理分析 | 第44-46页 |
| ·可能的生长机理分析 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第三章 近红外光响应g-C_3N_4/NaYF_4复合光催化剂的制备及光催化性能的研究 | 第48-65页 |
| ·前言 | 第48-49页 |
| ·实验部分 | 第49-52页 |
| ·实验仪器及试剂 | 第49-51页 |
| ·光催化剂的制备 | 第51页 |
| ·光催化剂的表征 | 第51页 |
| ·光催化性能的研究 | 第51-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-64页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第52-53页 |
| ·红外光谱(FT-IR)分析 | 第53-54页 |
| ·透射电镜(TEM、HRTEM、EDS)分析 | 第54-55页 |
| ·紫外可见吸收光谱(UV-vis)分析 | 第55-56页 |
| ·荧光光谱(PL)分析 | 第56-57页 |
| ·光催化性能研究 | 第57-60页 |
| ·光催化剂重复使用性 | 第60-61页 |
| ·可能的光催化机理分析 | 第61-63页 |
| ·可能的合成机理分析 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第四章 总结与展望 | 第65-67页 |
| ·总结 | 第65页 |
| ·展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-82页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83-85页 |