| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·光催化反应的基本原理 | 第11-12页 |
| ·氧化锌基半导体光催化剂 | 第12-13页 |
| ·影响氧化锌半导体光催化活性的因素 | 第13-16页 |
| ·禁带宽度的影响 | 第13-14页 |
| ·形貌的影响 | 第14-15页 |
| ·晶体结构的影响 | 第15-16页 |
| ·光催化剂改性的方法 | 第16-20页 |
| ·形貌调控 | 第16页 |
| ·离子掺杂 | 第16-18页 |
| ·贵金属沉积 | 第18-19页 |
| ·半导体复合 | 第19-20页 |
| ·选题依据和研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 实验材料与光催化剂的表征 | 第22-28页 |
| ·实验材料 | 第22-23页 |
| ·实验所用试剂 | 第22页 |
| ·实验仪器 | 第22-23页 |
| ·光催化剂的制备 | 第23页 |
| ·光催化剂的表征 | 第23-25页 |
| ·X-射线粉末衍射仪 | 第23-24页 |
| ·场扫描电子显微镜 | 第24页 |
| ·透射电子显微镜 | 第24页 |
| ·紫外-可见吸收光谱仪 | 第24页 |
| ·光电子能谱仪 | 第24-25页 |
| ·瞬态响应光电流 | 第25页 |
| ·光催化降解染料实验 | 第25页 |
| ·光催化抗菌实验 | 第25-28页 |
| ·培养基的配置 | 第25-26页 |
| ·细菌培养 | 第26页 |
| ·平板涂布实验 | 第26页 |
| ·最小抑菌浓度(MIC) | 第26-28页 |
| 第三章 微波辅助合成Zn_(1-x)Ni_xO@Ag花状复合结构及其光催化性能研究 | 第28-38页 |
| ·引言 | 第28-29页 |
| ·实验部分 | 第29-31页 |
| ·实验材料 | 第29页 |
| ·Zn_(1-x)Ni_xO微球的制备 | 第29-30页 |
| ·ZNO@Ag光催化剂半导体的制备 | 第30页 |
| ·样品的表征 | 第30页 |
| ·光催化降解染料实验 | 第30页 |
| ·光催化抗菌实验 | 第30-31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-37页 |
| ·花状Zn_(1-x)Ni_xO微球的物相和形貌分析 | 第31-32页 |
| ·Zn_(1-x)Ni_xO紫外-可见吸收光谱及光催化降解RhB实验 | 第32-33页 |
| ·ZNO@Ag复合光催化剂的形貌和物相分析 | 第33-34页 |
| ·ZNO@Ag可见光催化抗菌活性 | 第34-35页 |
| ·MIC实验检测 | 第35-36页 |
| ·瞬态光电流实验及光催化抗菌机理 | 第36-37页 |
| ·结论 | 第37-38页 |
| 第四章 ZnO@Ag_2S异质结构微波辅助合成及其光催化抗菌活性 | 第38-54页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·实验部分 | 第39-41页 |
| ·实验材料 | 第39页 |
| ·ZnO@Ag_2S复合光催化剂和制备 | 第39-40页 |
| ·物相及形貌表征 | 第40页 |
| ·光降解罗丹明B染料 | 第40页 |
| ·光催化抗菌实验 | 第40页 |
| ·光催化抗菌实验中活性基团的测试 | 第40-41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-51页 |
| ·ZnO@Ag_2S异质结构形貌表征 | 第41-42页 |
| ·ZnO@Ag_2S的HRTEM表征 | 第42-43页 |
| ·ZnO@Ag_2S光催化剂的XRD和XPS分析 | 第43-44页 |
| ·ZnO@Ag_2S光催化剂光电性质表征 | 第44-45页 |
| ·ZnO@Ag_2S光催化剂可见光降解RhB | 第45-46页 |
| ·ZnO@Ag_2S光催化剂可见光抗菌活性 | 第46-48页 |
| ·光催化抗菌过程中氧自由基的确定 | 第48-50页 |
| ·ZnO@Ag_2S光催化剂MIC值测试及抗菌机理 | 第50-51页 |
| ·结论 | 第51-54页 |
| 总结与展望 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第67-69页 |
