片上高品质因子边缘悬空硫化砷光学微盘腔
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| ·前言 | 第11-13页 |
| ·氧化硅回音壁模式光学微腔 | 第13-16页 |
| ·新材料光学微腔 | 第16-19页 |
| ·硫系玻璃光学简介 | 第19-28页 |
| ·硫系玻璃光纤和波导光学研究简介 | 第21-24页 |
| ·硫系玻璃WGM光学微腔研究简介 | 第24-28页 |
| ·本论文的研究动机和主要工作 | 第28-29页 |
| 第二章 边缘悬空硫化砷光学微盘腔的制备 | 第29-39页 |
| ·前言 | 第29-30页 |
| ·边缘悬空硫化砷光学微盘腔的制备流程 | 第30-38页 |
| ·热蒸发镀膜 | 第31-33页 |
| ·光刻制备硫化砷微盘腔 | 第33-36页 |
| ·套刻制备边缘悬空硫化砷光学微盘腔 | 第36-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 第三章 样品表征 | 第39-55页 |
| ·前言 | 第39页 |
| ·硫化砷材料性质表征 | 第39-45页 |
| ·光学性能测量 | 第45-54页 |
| ·光学性能测量基本原理 | 第46-50页 |
| ·自由光谱范围和品质因子的测量 | 第50-52页 |
| ·临界耦合 | 第52-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 第四章 总结与展望 | 第55-57页 |
| ·总结 | 第55页 |
| ·展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-65页 |
| 发表论文和专利 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |