长春禹衡光学有限公司研发内控体系优化研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-16页 |
| ·研究背景与意义 | 第12-13页 |
| ·选题背景 | 第12-13页 |
| ·选题意义 | 第13页 |
| ·主要内容与框架 | 第13-14页 |
| ·研究方法和创新点 | 第14-16页 |
| ·研究方法 | 第14页 |
| ·本文的创新点 | 第14-16页 |
| 第2章 内部控制理论综述 | 第16-26页 |
| ·内部控制理论 | 第16-19页 |
| ·内控的萌芽期 | 第16-17页 |
| ·内控的成长期 | 第17-18页 |
| ·内控的成熟期 | 第18-19页 |
| ·内控的飞跃期 | 第19页 |
| ·内部控制理论发展特点 | 第19-20页 |
| ·国内外内部控制研究现状 | 第20-22页 |
| ·国外内部控制研究情况 | 第20-22页 |
| ·我国内部控制发展历程 | 第22页 |
| ·内部控制理论发展对我国的启示 | 第22-26页 |
| ·内部控制体系有待完善 | 第23页 |
| ·加强内部控制环境建设 | 第23-24页 |
| ·加强风险的评估与管理 | 第24页 |
| ·内控信息的披露机制有待建立 | 第24-25页 |
| ·建立内部控制制度的评价体系 | 第25-26页 |
| 第3章 禹衡光学内部控制现状研究 | 第26-32页 |
| ·长春禹衡光学有限公司简介 | 第26-27页 |
| ·高新技术企业的特点和内部控制现状 | 第27-29页 |
| ·高新技术企业特征与内部控制特点 | 第27-29页 |
| ·高新技术企业内部控现状 | 第29页 |
| ·禹衡光学研发过程内部控制存在的问题及分析 | 第29-31页 |
| ·内控制度缺失不完善 | 第29-30页 |
| ·尚未建立研发流程风险识别体系 | 第30页 |
| ·内控环境管理 | 第30页 |
| ·研发成果开发保护 | 第30-31页 |
| ·禹衡光学建立内部控制体系的必要性 | 第31-32页 |
| ·完善有序的内部控制体系有助于企业合法经营 | 第31页 |
| ·运转流畅的内部控制体系可为企业提供有效信息 | 第31页 |
| ·内部控制有助于企业目标的实现 | 第31-32页 |
| 第4章 禹衡光学研发过程控制优化 | 第32-52页 |
| ·内部控制目标和原则 | 第32页 |
| ·内部控制目标 | 第32页 |
| ·内部控制制度设计的原则 | 第32页 |
| ·研发流程风险识别 | 第32-43页 |
| ·立项风险 | 第33-34页 |
| ·技术风险 | 第34-38页 |
| ·研发管理风险 | 第38-40页 |
| ·结题验收风险 | 第40页 |
| ·研究成果的开发和保护风险 | 第40-41页 |
| ·研发系统环境风险 | 第41-43页 |
| ·研发内部控制措施及其流程优化 | 第43-48页 |
| ·立项审批及项目决策管理 | 第43-44页 |
| ·技术风险控制方法 | 第44-46页 |
| ·研发管理优化 | 第46-48页 |
| ·研究成果的开发和保护管理措施 | 第48页 |
| ·内部控制评估 | 第48-52页 |
| ·内容 | 第49页 |
| ·程序 | 第49页 |
| ·方法 | 第49-51页 |
| ·时间 | 第51-52页 |
| 第5章 结论与展望 | 第52-54页 |
| ·结论 | 第52页 |
| ·不足 | 第52-53页 |
| ·展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
