| 摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-44页 |
| ·半导体气体传感器简介 | 第10-22页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·半导体气体传感器气敏机理 | 第11-13页 |
| ·半导体气体传感器基本参数 | 第13-15页 |
| ·灵敏度 | 第13-14页 |
| ·选择性 | 第14页 |
| ·稳定性 | 第14-15页 |
| ·响应-恢复时间 | 第15页 |
| ·半导体气体传感器的研究现状 | 第15-22页 |
| ·传统的半导体气体传感器 | 第15-16页 |
| ·新型半导体气体传感器 | 第16-22页 |
| ·有机场效应晶体管及其在气体传感器中的应用 | 第22-34页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·有机场效应晶体管的基本原理 | 第22-23页 |
| ·有机场效应晶体管的基本参数 | 第23-25页 |
| ·有机场效应晶体管研究现状 | 第25-32页 |
| ·有机薄膜场效应晶体管 | 第25-27页 |
| ·有机单晶微纳场效应晶体管 | 第27-32页 |
| ·有机场效应晶体管在气体传感器中的应用 | 第32-34页 |
| ·本论文选题依据与研究内容 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-44页 |
| 第二章 酞菁铜单晶微纳场效应器件的制备、测试系统及测试过程 | 第44-51页 |
| ·酞菁铜单晶微纳场效应器件制备 | 第44-47页 |
| ·酞菁铜单晶微纳材料的制备 | 第44-45页 |
| ·酞菁铜单晶微纳场效应器件制备及外接 | 第45-47页 |
| ·空气间隙绝缘层酞菁铜单晶微纳场效应器件制备及外接 | 第45-47页 |
| ·PMMA 绝缘层酞菁铜单晶微纳场效应器件制备及外接 | 第47页 |
| ·半导体单晶微纳气敏传感器测试系统 | 第47-48页 |
| ·引言 | 第47-48页 |
| ·测试系统结构 | 第48页 |
| ·测量过程 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |
| 第三章 酞菁铜单晶微纳场效应晶体管在 SO_2气体传感器中的应用及响应机理研究 | 第51-63页 |
| ·引言 | 第51-53页 |
| ·空气间隙绝缘层酞菁铜单晶微纳场效应器件场效应性能 | 第53页 |
| ·空气间隙绝缘层酞菁铜单晶微纳场效应器件对 SO_2的气敏特性 | 第53-55页 |
| ·空气间隙绝缘层酞菁铜单晶微纳场效应器件对 SO_2的响应机理研究 | 第55-59页 |
| ·SO_2对空气间隙绝缘层酞菁铜单晶微纳场效应器件多参数的影响 | 第55-57页 |
| ·空气间隙绝缘层与固态绝缘层酞菁铜单晶微纳场效应器件比较研究 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 第四章 空气间隙绝缘层酞菁铜单晶微纳场效应器件的多参数在气体甄别中的应用及响应机理研究 | 第63-75页 |
| ·引言 | 第63-64页 |
| ·空气间隙绝缘层酞菁铜单晶微纳场效应器件的多参数在气体甄别中的应用 | 第64-68页 |
| ·空气间隙绝缘层酞菁铜单晶微纳场效应器件性能及稳定性 | 第64-65页 |
| ·空气间隙绝缘层酞菁铜单晶微纳场效应器件的多参数在气体甄别中的应 | 第65-68页 |
| ·空气间隙绝缘层酞菁铜单晶微纳场效应器件响应机理 | 第68-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-75页 |
| 第五章 “气体增强法”在有机单晶场效应器件性能调控中的应用 | 第75-83页 |
| ·引言 | 第75-76页 |
| ·不同迁移率的空气间隙绝缘层酞菁铜单晶微纳场效应器件的稳定性 | 第76-77页 |
| ·“气体增强法”在有机单晶场效应器件性能调控中的应用 | 第77-78页 |
| ·采用二氧化硫来提高酞菁铜单晶微纳场效应器件性能 | 第77页 |
| ·采用二氧化氮来提高酞菁铜单晶微纳场效应器件性能 | 第77-78页 |
| ·“气体增强法”在其它有机单晶场效应器件性能调控中的应用 | 第78-80页 |
| ·本章小结 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-83页 |
| 结论 | 第83-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 在学期间公开发表论文、申请专利及参加会议情况 | 第86-87页 |
