镁合金表面离子束复合形成Ti-Al-N薄膜研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-11页 |
| 目录 | 第11-14页 |
| 图清单 | 第14-15页 |
| 附表清单 | 第15-16页 |
| 1 绪论 | 第16-33页 |
| ·镁与镁合金 | 第16-19页 |
| ·镁的物理化学性质 | 第16-18页 |
| ·镁系合金的特点及其应用 | 第18-19页 |
| ·镁合金的腐蚀 | 第19-22页 |
| ·镁的电化学特性 | 第19-21页 |
| ·镁及镁合金的腐蚀类型 | 第21页 |
| ·影响镁合金腐蚀性的因素 | 第21-22页 |
| ·表面工程 | 第22-24页 |
| ·表面工程的作用 | 第22页 |
| ·表面工程的意义 | 第22-24页 |
| ·镁合金表面防腐 | 第24-29页 |
| ·镁合金表面防腐方法 | 第25-28页 |
| ·镁合金表面防腐蚀处理现状 | 第28-29页 |
| ·Ti-Al-N 薄膜 | 第29-31页 |
| ·Ti-Al-N 薄膜概述 | 第29页 |
| ·Al 在 Ti-Al-N 薄膜中的作用 | 第29-30页 |
| ·Ti-Al-N 薄膜的性能 | 第30-31页 |
| ·本文主要研究内容和创新点 | 第31-33页 |
| 2 实验材料与测试方法 | 第33-37页 |
| ·实验材料 | 第33页 |
| ·实验设备 | 第33-35页 |
| ·检测方法 | 第35-37页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第35页 |
| ·扫描电镜（SEM） | 第35-36页 |
| ·厚度测试 | 第36页 |
| ·金相显微 | 第36页 |
| ·掠入射 XRD | 第36页 |
| ·电化学腐蚀 | 第36页 |
| ·摩擦磨损 | 第36-37页 |
| 3 直流磁控溅射工艺参数的优化 | 第37-48页 |
| ·磁控溅射 | 第37-41页 |
| ·磁控溅射工艺优化 | 第41-47页 |
| ·纯 Ti 靶的磁控溅射工艺参数优化 | 第42-45页 |
| ·纯 Al 靶的磁控溅射工艺参数优化 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 4 镁合金表面 Ti-Al-N 薄膜复合制备 | 第48-68页 |
| ·磁控溅射离子注入复合技术 | 第48-52页 |
| ·离子注入技术 | 第48-51页 |
| ·表面复合技术 | 第51-52页 |
| ·实验设计与工艺参数 | 第52-56页 |
| ·实验设计与理论依据 | 第52-54页 |
| ·实验参数 | 第54-56页 |
| ·实验结果分析 | 第56-67页 |
| ·Ti-Al-N 薄膜表面形貌 | 第56-59页 |
| ·Ti-Al-N 薄膜物 AFM 分析 | 第59-61页 |
| ·Ti-Al-N 薄膜膜物像分析 | 第61-62页 |
| ·Ti-Al-N 薄膜厚度测量 | 第62-65页 |
| ·Ti-Al-N 薄膜基附着力 | 第65-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 5 纯钛过渡离子束复合形成 Ti-Al-N 薄膜 | 第68-85页 |
| ·Ti-Al-N 薄膜工艺改进可行性分析 | 第68-70页 |
| ·多元化方法可行性分析 | 第68-69页 |
| ·多层化方法可行性分析 | 第69页 |
| ·多重处理方法可行性分析 | 第69-70页 |
| ·采用 Ti 过渡层的可行性分析 | 第70页 |
| ·纯 Ti 过渡层工艺优化参数 | 第70-71页 |
| ·纯钛过渡 Ti-Al-N 薄膜附着力测试 | 第71页 |
| ·纯钛过渡 Ti-Al-N 薄膜物相分析 | 第71-73页 |
| ·纯钛过渡 Ti-Al-N 薄膜耐磨性能测试 | 第73-77页 |
| ·纯钛过渡 Ti-Al-N 薄膜耐腐蚀性能测试 | 第77-84页 |
| ·极化曲线 | 第77-78页 |
| ·塔菲尔直线外推 | 第78-79页 |
| ·电化学测试平台 | 第79-81页 |
| ·纯钛过渡 Ti-Al-N 薄膜电化学测试结果 | 第81-84页 |
| ·本章小结 | 第84-85页 |
| 6 结论 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-92页 |
| 作者简介 | 第92页 |
