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有机非线性光学材料—L-苹果酸脲的制备及光学效应研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-12页
第一章 文献综述第12-30页
   ·前言第12-13页
   ·非线性光学及非线性光学材料的研究概述第13-17页
     ·非线性光学效应的产生及基本原理第13-15页
     ·非线性光学材料研究概述第15-17页
   ·非线性光学材料的晶体生长第17-23页
     ·晶体生长理论概述第17-19页
     ·晶体缺陷简介第19-20页
     ·影响晶体生长的外部因素第20-21页
       ·物质相变熵的影响第20页
       ·表面自由能的影响第20-21页
       ·杂质的影响第21页
       ·其他第21页
     ·晶体生长方法简介第21-23页
   ·有机NLO材料的研究状况及手性与非线性关系第23-26页
     ·有机NLO材料的研究概况第23-24页
     ·手性与非线性关系研究状况第24-26页
   ·本论文的研究意义及主要内容第26-28页
 参考文献第28-30页
第二章 非线性光学材料——L-苹果酸脲的制备研究第30-49页
   ·前言第30页
   ·实验材料第30-31页
     ·实验试剂第30页
     ·实验仪器第30-31页
   ·实验方法第31-32页
     ·L-苹果酸的合成方法第31页
     ·红外光谱、X衍射及核磁共振实验第31页
     ·反应溶剂的选择及条件优化实验第31-32页
   ·实验结果与讨论第32-47页
     ·产物的物相分析第32-35页
     ·不同溶剂对L-苹果酸脲制备的影响第35-37页
     ·L-苹果酸脲制备最佳条件的选择第37-41页
       ·溶剂用量的确定第37-38页
       ·反应时间的影响第38页
       ·反应温度的影响第38-39页
       ·底物配比对产率的影响第39-40页
       ·搅拌对产率的影响第40页
       ·L-苹果酸脲反应条件的优化第40-41页
     ·搅拌对L-苹果酸脲结晶的影响第41-43页
     ·底物配比对L-苹果酸脲结晶的影响第43-45页
     ·反应温度对L-果酸脲结晶的影响第45-46页
     ·反应时间对L-苹果酸脲结晶的影响第46-47页
   ·本章小结第47-48页
 参考文献第48-49页
第三章 非线性光学材料——L-苹果酸脲的晶体生长研究第49-61页
   ·前言第49页
   ·实验材料第49-50页
     ·实验试剂第49页
     ·实验仪器第49-50页
   ·实验方法第50-51页
     ·溶解度曲线的测定第50页
     ·过饱和度曲线的测定第50页
     ·L-苹果酸脲的晶体生长实验初探第50-51页
     ·生长速率对晶体生长的影响实验第51页
   ·实验结果与讨论第51-58页
     ·L-苹果酸脲的溶解度曲线和分析第51-53页
     ·L-苹果酸脲晶体生长的稳定性第53-55页
     ·L-苹果酸脲的晶体生长第55-56页
       ·环境温度对L-苹果酸脲单晶生长的影响第55页
       ·初步的L-苹果酸脲单晶生长第55-56页
     ·晶体生长速率对L-苹果酸脲晶体生长的影响第56-57页
       ·晶体生长速率L-苹果酸脲晶体形态的影响第56页
       ·晶体生长速率对L-苹果酸脲晶体大小的影响第56-57页
     ·晶体生长结构缺陷第57-58页
       ·“云层”缺陷第57-58页
       ·“孪晶”现象第58页
   ·本章小节第58-60页
 参考文献第60-61页
第四章 L-苹果酸脲晶体非线性光学效应的初步研究第61-70页
   ·前言第61-62页
     ·概述第61页
     ·有机分子的二阶非线性光学效应测试方法第61-62页
   ·实验材料第62页
     ·实验试剂第62页
     ·实验仪器第62页
   ·实验方法第62-64页
     ·晶体熔点的测定和吸湿性实验第62页
     ·L-苹果酸脲的旋光度测试第62-63页
     ·L-苹果酸脲溶液的紫外/可见透过率实验第63页
     ·L-苹果酸脲倍频效应的初步测试第63-64页
   ·实验结果与讨论第64-68页
     ·熔点及吸湿性实验分析第64页
     ·L-苹果酸脲的紫外/可见吸收光谱第64页
     ·旋光度测试及分析第64-65页
     ·非线性光学特性的结果分析第65-68页
   ·本章小节第68-69页
 参考文献第69-70页
第五章 结论和展望第70-72页
   ·结论第70-71页
   ·展望第71-72页
附录第72-79页
致谢第79页

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