摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第1章 绪论 | 第10-22页 |
·研究背景和意义 | 第10-11页 |
·超疏水表面的理论基础 | 第11-13页 |
·接触角与Young 氏方程 | 第11页 |
·Wenzel 模型与Cassie 模型 | 第11-12页 |
·接触角滞后现象与滚动角 | 第12-13页 |
·超疏水表面的制备方法 | 第13-17页 |
·刻蚀法 | 第14页 |
·溶胶-凝胶法 | 第14页 |
·气相沉积法 | 第14-15页 |
·直接成膜法 | 第15页 |
·电化学方法 | 第15页 |
·电纺技术 | 第15-16页 |
·模板法 | 第16页 |
·异相成核法 | 第16页 |
·自组装法 | 第16-17页 |
·其他方法 | 第17页 |
·两亲性嵌段共聚物的制备及在超疏水表面研究中的应用 | 第17-18页 |
·RAFT 聚合制备两亲性嵌段共聚物 | 第17-18页 |
·两亲性嵌段共聚物在制备超疏水表面中的应用 | 第18页 |
·芳香偶氮苯光致异构化及在超疏水表面制备中的研究 | 第18-19页 |
·偶氮苯的光致顺反异构化 | 第18-19页 |
·偶氮苯类化合物在超疏水表面制备中的应用 | 第19页 |
·点击化学简介及在表面修饰中的应用研究 | 第19-20页 |
·点击化学简介 | 第19-20页 |
·点击化学在表面修饰中的应用 | 第20页 |
·课题研究目的、意义及思路 | 第20-22页 |
第2章 RAFT 聚合制备两亲性嵌段共聚物及其应用研究 | 第22-34页 |
·药品与仪器 | 第22-23页 |
·原料规格 | 第22页 |
·原料精制与预处理 | 第22-23页 |
·实验仪器 | 第23页 |
·PtBMA-b-P4VP 嵌段共聚物的制备 | 第23-25页 |
·RAFT 试剂二硫代苯甲酸异丙苯酯(CDB)的合成 | 第23-24页 |
·两亲性嵌段共聚物的制备 | 第24-25页 |
·含PtBMA-b-P4VP 超疏水表面的制备 | 第25页 |
·纳米二氧化硅表面接枝改性 | 第25页 |
·超疏水表面的制备 | 第25页 |
·分析测试 | 第25-26页 |
·合成产物的结构表征与分析 | 第25页 |
·单体转化率的表征 | 第25页 |
·聚合物的分子量及分子量分布表征 | 第25-26页 |
·杂化材料接枝聚合物质量分数表征 | 第26页 |
·超疏水表面微观形貌表征 | 第26页 |
·表面的接触角及滚动角测量 | 第26页 |
·结果与讨论 | 第26-33页 |
·RAFT 试剂CDB 的合成与表征 | 第26-28页 |
·PtBMA 及PtBMA-b-P4VP 的制备与表征 | 第28-30页 |
·PtBMA 的活性可控自由基聚合 | 第30-31页 |
·超疏水表面的制备研究 | 第31-33页 |
·本章小结 | 第33-34页 |
第3章 草莓型表面“点击”光响应偶氮苯小分子及其润湿性能的研究 | 第34-44页 |
·药品与仪器 | 第34-35页 |
·原料规格 | 第34页 |
·实验仪器 | 第34页 |
·原料精制与预处理 | 第34-35页 |
·光响应性偶氮苯小分子的制备 | 第35-36页 |
·4-羟基-4′-三氟甲氧基偶氮苯的合成 | 第35页 |
·4-炔丙氧基-4′-三氟甲氧基偶氮苯的合成 | 第35-36页 |
·粗糙表面的构筑 | 第36-37页 |
·硅片表面的处理 | 第36页 |
·硅片表面吸附二氧化硅 | 第36页 |
·硅片表面热处理 | 第36-37页 |
·二氧化硅表面接枝光响应小分子偶氮苯制备超疏水表面 | 第37-38页 |
·二氧化硅表面的氯烷基化 | 第37页 |
·氯烷基的叠氮化 | 第37页 |
·粗糙表面链接光响应性偶氮苯小分子 | 第37-38页 |
·分析测试 | 第38页 |
·偶氮苯小分子的表征 | 第38页 |
·二氧化硅表面的SEM 表征 | 第38页 |
·二氧化硅表面点击反应的漫反射红外分析 | 第38页 |
·接触角的测量 | 第38页 |
·结果与讨论 | 第38-43页 |
·4-炔丙基氧-4′-三氟甲氧基偶氮苯的FT-IR 表征 | 第38-39页 |
·4-炔丙基氧-4′-三氟甲氧基偶氮苯的1H NMR 表征 | 第39-40页 |
·二氧化硅表面的SEM 表征 | 第40页 |
·草莓型表面的热处理 | 第40-41页 |
·草莓型表面修饰含氟偶氮苯小分子 | 第41-42页 |
·草莓型表面的润湿性能研究 | 第42-43页 |
·本章小结 | 第43-44页 |
结论 | 第44-46页 |
参考文献 | 第46-50页 |
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第50-51页 |
致谢 | 第51页 |