| 摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-7页 |
| 1 绪论 | 第7-23页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷 | 第7-8页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷的物理化学和显微结构 | 第8-11页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷产生压敏性的物理基础 | 第8-9页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷产生压敏性的化学基础 | 第9-10页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷产生压敏性的显微结构 | 第10-11页 |
| ·ZnO 压敏效应原理及其表征 | 第11-13页 |
| ·低压ZnO 压敏陶瓷的掺杂改性与晶粒生长理论 | 第13-16页 |
| ·掺杂改性理论 | 第13-16页 |
| ·晶粒生长理论 | 第16页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷低压化方法 | 第16-18页 |
| ·减小ZnO 压敏陶瓷片的厚度 | 第17页 |
| ·降低ZnO 压敏陶瓷片中单晶界层击穿电压 | 第17页 |
| ·增大ZnO 平均晶粒尺寸 | 第17-18页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷国内外的研究动态及发展趋势 | 第18-21页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷国内外的研究动态 | 第18-20页 |
| ·低压ZnO 压敏陶瓷的发展趋势 | 第20-21页 |
| ·本课题研究的意义、目的和内容 | 第21-23页 |
| ·本课题研究的意义和目的 | 第21-22页 |
| ·本课题的研究内容 | 第22-23页 |
| 2 试验方法原理与试验设计 | 第23-27页 |
| ·实验原料及设备 | 第23-24页 |
| ·试验方案设计 | 第24页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷的制备工艺 | 第24-25页 |
| ·样品制备 | 第24页 |
| ·制备工艺流程图 | 第24-25页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷工艺优化 | 第25-26页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷成型工艺优化 | 第25-26页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷烧结工艺优化 | 第26页 |
| ·样品结构和性能测试 | 第26-27页 |
| 3 低压ZnO 压敏陶瓷工艺参数优化 | 第27-35页 |
| ·低压ZnO 压敏陶瓷成型工艺参数优化 | 第27-30页 |
| ·压制成型时压强和保压时间的优化 | 第27-28页 |
| ·粘结剂用量的优化 | 第28-30页 |
| ·低压ZnO 压敏陶瓷烧结工艺参数优化 | 第30-34页 |
| ·烧结温度对低压ZnO 压敏陶瓷电性能的影响 | 第30-31页 |
| ·保温时间对低压ZnO 压敏陶瓷电性能的影响 | 第31-33页 |
| ·升温速率对低压ZnO 压敏陶瓷致密度的影响 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 4 添加剂对低压ZnO 压敏陶瓷性能影响的正交试验研究 | 第35-48页 |
| ·添加剂对低压ZnO 压敏陶瓷电性能的影响 | 第35-43页 |
| ·添加剂对低压ZnO 压敏陶瓷显微结构的影响 | 第43-44页 |
| ·添加剂掺杂低压ZnO 压敏陶瓷XRD 物相分析 | 第44-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 5 Y_20_3 掺杂对低压ZnO 压敏陶瓷性能的影响 | 第48-59页 |
| ·Y_20_3 掺杂对低压ZnO 压敏陶瓷电性能的影响 | 第48-50页 |
| ·Y_20_3 掺杂对低压ZnO 压敏陶瓷显微结构的影响 | 第50-56页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)形貌分析 | 第50-51页 |
| ·能谱(EDS)测试分析 | 第51-55页 |
| ·X 射线衍射(XRD)物相分析 | 第55-56页 |
| ·Y_20_3 掺杂对低压ZnO 压敏陶瓷的作用机制分析 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 6 结论 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
