溶胶—凝胶法制备SrTiO3电容—压敏双功能薄膜
| 第一章 绪论 | 第1-21页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·压敏材料的研究现状 | 第9-14页 |
| ·ZnO | 第10-11页 |
| ·SiC | 第11页 |
| ·BaTiO_3 | 第11-12页 |
| ·TiO_2 | 第12页 |
| ·WO_3 | 第12-13页 |
| ·SnO_2 | 第13页 |
| ·SrTiO_3 | 第13-14页 |
| ·电容—电压敏SrTiO_3薄膜的研究意义 | 第14-15页 |
| ·SrTiO_3薄膜的制备方法 | 第15-17页 |
| ·等离子体增强化学气相淀积法 | 第15页 |
| ·射频磁控溅射 | 第15-16页 |
| ·金属有机化学气相淀积 | 第16页 |
| ·脉冲激光轰击 | 第16-17页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第17页 |
| ·SrTiO_3薄膜的其他性质 | 第17-19页 |
| ·高介电常数 | 第17-18页 |
| ·SrTiO_3氧敏性质 | 第18-19页 |
| ·选题背景和主要工作 | 第19-21页 |
| 第二章 SrTiO_3电容—电压敏特性的基础理论 | 第21-37页 |
| ·压敏特性概述 | 第21-25页 |
| ·伏安非线性 | 第21-22页 |
| ·非线性系数 | 第22-23页 |
| ·压敏电压 | 第23-24页 |
| ·介电损耗 | 第24-25页 |
| ·SrTiO_3压敏特性机理 | 第25-35页 |
| ·SrTiO_3晶体结构 | 第26-28页 |
| ·晶界势垒模型 | 第28-32页 |
| ·半导化和绝缘化机理 | 第32-35页 |
| ·压敏特性和电容性之间的关系 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 溶胶—凝胶法制备SrTiO_3薄膜 | 第37-59页 |
| ·溶胶—凝胶法制备SrTiO_3薄膜的的机理 | 第37-39页 |
| ·凝胶的热分析 | 第39-40页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第40-44页 |
| ·主要原料及设备 | 第40-41页 |
| ·基片的选择与清洗 | 第41-42页 |
| ·薄膜制备的步骤 | 第42-44页 |
| ·薄膜的结构特征分析 | 第44-57页 |
| ·水钛比对SrTiO_3薄膜结构的影响 | 第44-47页 |
| ·水酸比对SrTiO_3薄膜结构的影响 | 第47-50页 |
| ·乙醇的量对SrTiO_3薄膜结构的影响 | 第50-52页 |
| ·退火温度对SrTiO_3薄膜结构的影响 | 第52-55页 |
| ·陈化时间对SrTiO_3薄膜结构的影响 | 第55-56页 |
| ·其它因素对于薄膜的影响 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第四章 掺杂对SrTiO_3薄膜性能的影响 | 第59-75页 |
| ·薄膜的制备 | 第59-63页 |
| ·主要原料 | 第59页 |
| ·实验设备 | 第59-60页 |
| ·测试设备 | 第60页 |
| ·制备掺杂SrTiO_3薄膜的工艺流程 | 第60-63页 |
| ·施主掺杂剂和受主掺杂剂的选择 | 第63-64页 |
| ·施主掺杂剂的选择 | 第64页 |
| ·受主掺杂剂的选择 | 第64页 |
| ·薄膜的电性能分析 | 第64-75页 |
| ·施主La~(3+)离子对电性能的影响 | 第65-69页 |
| ·受主Mn~(2+)离子对电性能的影响 | 第69-75页 |
| 第五章 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-79页 |
| 在读期间发表论文 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
