| 引言 | 第1-9页 |
| 一、 硅中杂质的吸除方式: | 第9-19页 |
| ·吸杂技术概述 | 第9-11页 |
| ·内吸除技术 | 第11-12页 |
| ·外吸除技术及相关模型 | 第12-18页 |
| 参考文献 | 第18-19页 |
| 二、 硅中氦微孔的吸杂原理 | 第19-35页 |
| ·氦微孔吸杂基本原理 | 第19-20页 |
| ·氦微孔的形成 | 第20-24页 |
| ·氦微孔吸杂的热处理过程 | 第24-27页 |
| ·微孔吸杂技术的研究方法 | 第27-28页 |
| ·以二极管漏电流衡量吸杂效果的依据和优势 | 第28-31页 |
| ·本论文的研究内容和方法 | 第31-33页 |
| 参考文献 | 第33-35页 |
| 三、 氦诱生微孔对硅中低浓度杂质吸除的研究 | 第35-53页 |
| ·样品制备 | 第35-37页 |
| ·样品的测试 | 第37页 |
| ·AFM观察氦离子注入的硅表面 | 第37-38页 |
| ·优化氦微孔吸杂热处理工艺的研究 | 第38-43页 |
| ·氦微孔吸杂效果的研究 | 第43-47页 |
| ·对实验结果的几点讨论 | 第47-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 四、 结论 | 第53-55页 |
| 声明 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |