| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 ZnO材料综述 | 第10-16页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第10-15页 |
| ·ZnO的结构性质 | 第10-11页 |
| ·ZnO的电学性质 | 第11-12页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第12-13页 |
| ·ZnO的带隙调制 | 第13-15页 |
| ·ZnO的应用 | 第15-16页 |
| 2 薄膜制备技术 | 第16-21页 |
| ·ZnO薄膜的制备技术 | 第16-21页 |
| ·脉冲激光沉积技术 | 第16-17页 |
| ·反应磁控溅射技术 | 第17-18页 |
| ·分子束外延技术 | 第18-19页 |
| ·有机金属化学气相沉积(MOCVD) | 第19-20页 |
| ·其他生长方法 | 第20-21页 |
| 3 薄膜样品的制备与分析 | 第21-29页 |
| ·制备仪器介绍 | 第21-23页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)设备介绍 | 第21-22页 |
| ·射频磁控溅射设备介绍 | 第22-23页 |
| ·薄膜分析技术 | 第23-29页 |
| ·X射线衍射(x ray diffraction,XRD) | 第23-25页 |
| ·扫描电子显微镜(scanning electron microscope SEM) | 第25-26页 |
| ·电子探针显微分析 | 第26-27页 |
| ·导电原子力显微分析(C-AFM) | 第27-28页 |
| ·光致荧光(PL)光谱分析 | 第28-29页 |
| 4 基片温度对ZnCdO薄膜性能的影响 | 第29-36页 |
| ·ZnCdO薄膜的制备 | 第29页 |
| ·结果与分析 | 第29-35页 |
| ·ZnCdO薄膜的结构分析 | 第29-31页 |
| ·ZnCdO薄膜的光学性质 | 第31-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 5 氧气压对ZnCdO薄膜结构和光学性能的影响 | 第36-44页 |
| ·ZnCdO薄膜的制备与表征 | 第36-37页 |
| ·结果与分析 | 第37-43页 |
| ·ZnCdO薄膜的结构性质 | 第37-40页 |
| ·ZnCdO薄膜的光学性质 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 6 Pt层对ZnCdO薄膜性能的影响 | 第44-50页 |
| ·样品制备与表征 | 第44页 |
| ·结果分析与讨论 | 第44-49页 |
| ·Pt层厚度对薄膜结构及形貌的影响 | 第44-47页 |
| ·Pt/ZnCdO微观电学性质 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 7 氧气压对ZnO薄膜结构和光学性能的影响 | 第50-56页 |
| ·样品制备与表征 | 第50页 |
| ·结果分析与讨论 | 第50-55页 |
| ·薄膜样品结构性质 | 第50-52页 |
| ·薄膜样品光学性质 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |