Ag掺杂ZnO薄膜的相组成和光学性质
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 引言 | 第10-12页 |
| 1 绪论 | 第12-20页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第12-14页 |
| ·表面等离子激元 | 第14-18页 |
| ·表面等离子激元研究历史 | 第14页 |
| ·表面等离子激元 | 第14-16页 |
| ·表面等离子激元效应在宽禁带半导体中的应用 | 第16-18页 |
| ·半导体的共振拉曼散射 | 第18-20页 |
| 2 ZnO薄膜的制备与分析 | 第20-24页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜 | 第20-22页 |
| ·磁控溅射技术的基本原理 | 第20页 |
| ·实验设备 | 第20-22页 |
| ·脉冲激光沉积法制备薄膜 | 第22-24页 |
| ·脉冲激光沉积技术的基本原理 | 第22-23页 |
| ·实验设备 | 第23-24页 |
| 3 薄膜样品的表征方法 | 第24-33页 |
| ·薄膜结构表征：X射线衍射(XRD) | 第24页 |
| ·薄膜光学性能表征 | 第24-31页 |
| ·发光光谱 | 第25-26页 |
| ·激发光谱 | 第26-28页 |
| ·透射光谱 | 第28页 |
| ·寿命测量 | 第28-29页 |
| ·量子效率测量 | 第29-31页 |
| ·薄膜的成分分析：电子探针技术(EPMA) | 第31-33页 |
| 4 ZnO掺Ag样品的制备与分析 | 第33-43页 |
| ·Ag掺杂ZnO薄膜的制备 | 第34页 |
| ·薄膜的相组成和成分分析 | 第34-38页 |
| ·Ag掺杂ZnO薄膜中的表面等离子激元效应 | 第38-39页 |
| ·ZnO缓冲层对薄膜的影响 | 第39-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 5 多级共振拉曼散射的受激辐射 | 第43-50页 |
| ·拉曼光谱中的共振拉曼散射现象 | 第43-44页 |
| ·激发光谱中的共振拉曼散射现象 | 第44-48页 |
| ·低温激发光谱 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
