GMAW-P焊熔滴过渡协同控制的研究
摘要 | 第1-8页 |
ABSTRACT | 第8-10页 |
第1章 绪论 | 第10-18页 |
·前言 | 第10-11页 |
·三种熔滴过渡形式 | 第11-13页 |
·多脉一滴 | 第11页 |
·一脉一滴 | 第11-12页 |
·一脉多滴 | 第12-13页 |
·GMAW-P焊熔滴过渡的研究现状 | 第13-15页 |
·峰值期间电能量恒定控制法 | 第13页 |
·弧光通量检测控制及其传感技术 | 第13页 |
·电弧音频检测控制法 | 第13-14页 |
·激励熔滴振动过渡熔滴控制法 | 第14页 |
·电弧电信号检测控制法 | 第14页 |
·电弧光谱信号控制法 | 第14-15页 |
·GMAW-P焊熔滴过渡控制的发展方向 | 第15-16页 |
·协同化 | 第15页 |
·数字化 | 第15-16页 |
·智能化 | 第16页 |
·精细化 | 第16页 |
·本论文的研究背景及意义 | 第16-17页 |
·本论文主要研究的内容 | 第17-18页 |
第2章 GMAW-P焊控制系统的设计 | 第18-40页 |
·熔滴的过渡机理研究 | 第18-26页 |
·焊丝的熔化 | 第18-20页 |
·熔滴的受力分析 | 第20-24页 |
·影响熔滴过渡的因素 | 第24-26页 |
·控制波形的设计 | 第26-29页 |
·普通脉冲波形 | 第26-27页 |
·具有过渡区的脉冲波形 | 第27-29页 |
·弧长闭环控制 | 第29-33页 |
·电弧自调节能力 | 第30-31页 |
·当前周期弧长闭环控制 | 第31-32页 |
·减小短路对弧长的影响 | 第32-33页 |
·焊接专家系统的建立 | 第33-36页 |
·脉冲峰值电流和峰值时间 | 第34-35页 |
·脉冲过渡电流和过渡时间 | 第35-36页 |
·引弧设计 | 第36-37页 |
·去球设计 | 第37-38页 |
·本章小结 | 第38-40页 |
第3章 GMAW-P焊系统建模与仿真 | 第40-48页 |
·电弧模型 | 第40-42页 |
·电弧负载模型 | 第40-41页 |
·弧长变化模型 | 第41-42页 |
·熔化速度模型 | 第42-43页 |
·波形控制器模型 | 第43-45页 |
·附加模型 | 第45-47页 |
·中心频率模型 | 第45-46页 |
·峰值基值切换模型 | 第46-47页 |
·系统仿真模型 | 第47页 |
·本章小结 | 第47-48页 |
第4章 全数字化GMAW-P焊接系统设计 | 第48-74页 |
·系统总体结构设计 | 第48-49页 |
·主电路设计 | 第49-50页 |
·控制电路设计 | 第50-61页 |
·单片机的选型 | 第51页 |
·DSP的选型 | 第51-54页 |
·信号调理电路 | 第54-57页 |
·通讯方式 | 第57-59页 |
·印制板实物 | 第59-61页 |
·软件系统设计 | 第61-66页 |
·总体流程图 | 第61-62页 |
·PI控制算法 | 第62-65页 |
·弧长控制算法 | 第65-66页 |
·抗干扰设计 | 第66-71页 |
·硬件抗干扰措施 | 第66-68页 |
·软件抗干扰措施 | 第68-71页 |
·本章小结 | 第71-74页 |
第5章 协同控制 GMAW-P焊的实验研究 | 第74-84页 |
·普通GMAW-P焊工艺方法 | 第74-75页 |
·具有过渡区的GMAW-P工艺方法 | 第75-81页 |
·峰值电流、峰值时间的影响 | 第76-78页 |
·过渡电流的影响 | 第78-80页 |
·过渡时间的影响 | 第80-81页 |
·跃台阶焊接实验 | 第81-83页 |
·本章小结 | 第83-84页 |
第6章 结论 | 第84-86页 |
参考文献 | 第86-88页 |
致谢 | 第88-90页 |
作者攻读硕士期间发表的论文及成果 | 第90-91页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第91页 |