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硼掺杂金刚石薄膜电极的制备与应用

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第一章 绪论第10-23页
   ·金刚石简介第10-13页
     ·金刚石目前的研究和发展第10页
     ·金刚石与金刚石薄膜的优异性能第10-13页
   ·金刚石的掺杂及人造金刚石第13-14页
   ·化学气相沉积法制备含硼金刚石薄膜的简介第14-17页
   ·掺硼金刚石薄膜电极性能第17页
   ·掺硼金刚石薄膜制备第17-22页
     ·基体的选择第17-18页
     ·硼源的选择第18页
     ·基体预处理第18-20页
     ·热丝的选择与碳化第20-21页
     ·形核阶段与生长阶段第21-22页
   ·小结第22-23页
第二章 电化学检测方法和化学修饰电极第23-33页
   ·三电极系统第23-25页
     ·掺硼金刚石薄膜电极的特性及其电势窗口第23页
     ·参比电极第23-25页
     ·辅助电极及其作用第25页
   ·循环伏安法与线性扫描技术第25-27页
     ·循环伏安法(Cyclic Voltammetry)第25-26页
     ·溶出伏安法(Stripping Voltammetry)第26-27页
   ·金刚石薄膜表面的修饰第27-29页
     ·氢终端的金刚石表面第27页
     ·氧终端的金刚石表面第27-28页
     ·卤素终端的金刚石表面第28页
     ·氨基终端的金刚石表面第28-29页
   ·化学修饰电极的应用第29-33页
     ·在有机电解反应中的应用第29-30页
     ·在电池电极上的应用第30-31页
     ·在电化学原件上的应用第31页
     ·在分析化学中的应用第31-33页
第三章 硼掺杂金刚石电极对BR-和I-的测定第33-42页
   ·引言第33页
   ·实验部分第33-34页
     ·仪器与试剂第33-34页
     ·电极第34页
     ·测量方法第34页
   ·结果与讨论第34-41页
     ·BDD 表面的拉曼特征第34页
     ·Br~-和I-在BDD 电极上的循环伏安特性第34-35页
     ·Br~-和I-在BDD 电极上的氧化和还原第35-37页
     ·扫描速度的影响第37-39页
     ·Br~-和I~-的浓度对循环伏安响应的影响第39页
     ·pH 的影响第39-40页
     ·计时电流法工作电位的影响第40-41页
     ·BDD 电极对Br-和I-的响应特征第41页
   ·小结第41-42页
第四章 壳聚糖修饰金刚石电极在测定碘中的应用第42-48页
   ·实验准备和条件的选择第42-44页
     ·仪器与试剂第42页
     ·电化学测量体系第42-43页
     ·掺硼金刚石电极的制备和修饰第43页
     ·实验方法第43-44页
     ·缓冲液的选择第44页
   ·实验过程第44-46页
     ·电极的伏安特性第44页
     ·富集电位和富集时间的选择第44-45页
     ·底液pH 值的选择第45-46页
   ·结果与讨论第46-48页
     ·电极的重现性和再生第46页
     ·线性范围和检测限第46-47页
     ·干扰实验第47页
     ·结论第47-48页
第五章 综述与展望第48-50页
   ·制备掺硼金刚石薄膜电极的新工艺第48页
   ·金刚石的优良特性及其在检测物质中的作用第48页
   ·对掺硼的金刚石薄膜修饰的方法第48-49页
   ·修饰后掺硼金刚石薄膜电极的应用第49页
   ·需要改进的实验方案第49-50页
参考文献第50-55页
发表论文和科研情况说明第55-56页
致谢第56-57页

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