| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-30页 |
| ·引言 | 第14-15页 |
| ·大容量体全息存储及光学相关识别 | 第15-18页 |
| ·大容量体全息存储的研究进展 | 第16-17页 |
| ·光学相关识别的研究进展 | 第17-18页 |
| ·体全息存储材料——铌酸锂晶体 | 第18-28页 |
| ·铌酸锂晶体的缺陷结构 | 第19-23页 |
| ·铌酸锂晶体的掺杂工程 | 第23-27页 |
| ·近化学计量比铌酸锂晶体 | 第27-28页 |
| ·本论文的研究意义及主要研究内容 | 第28-30页 |
| ·本论文的研究意义 | 第28页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第28-30页 |
| 第2章 Hf:Fe:LiNbO_3 晶体缺陷结构与离子占位研究 | 第30-49页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验中所用材料及掺杂离子的性质 | 第30-32页 |
| ·实验中所用材料 | 第30-31页 |
| ·掺杂离子极化能力的分析 | 第31-32页 |
| ·掺杂离子的阈值浓度 | 第32页 |
| ·红外OH-吸收光谱 | 第32-36页 |
| ·红外OH-吸收光谱测试结果 | 第33-35页 |
| ·红外OH-吸收峰的移动机理 | 第35-36页 |
| ·紫外-可见吸收光谱 | 第36-40页 |
| ·紫外-可见吸收光谱测试结果 | 第36-38页 |
| ·紫外-可见吸收边的移动机理 | 第38-40页 |
| ·ICP-AES 分析 | 第40-45页 |
| ·拉曼光谱 | 第45-48页 |
| ·基本理论 | 第45-46页 |
| ·Hf:Fe:LiNbO_3 晶体的拉曼光谱 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第3章 Hf:Fe:LiNbO_3 晶体的抗光损伤性能研究 | 第49-63页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·光斑畸变法测试晶体的抗光损伤性能 | 第49-52页 |
| ·双折射法测试晶体的抗光损伤性能 | 第52-62页 |
| ·光致双折射变化 | 第52-55页 |
| ·双折射法测试材料抗光损伤能力的实验装置 | 第55-58页 |
| ·实验结果与分析 | 第58-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第4章 Hf:Fe:LiNbO_3 晶体的光折变性能研究 | 第63-76页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·光折变体全息存储的主要性能参数 | 第63-67页 |
| ·二波耦合实验装置 | 第67-68页 |
| ·实验结果与分析 | 第68-75页 |
| ·Hf~(4+)离子掺杂浓度对晶体光折变性能的影响 | 第68-71页 |
| ·[Li]/[Nb]比变化对晶体光折变性能的影响 | 第71-73页 |
| ·记录光强对晶体光折变性能的影响 | 第73-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 第5章 基于光学滤波的快速相关识别 | 第76-95页 |
| ·引言 | 第76-77页 |
| ·光学相关器 | 第77-80页 |
| ·光学滤波图像相关识别的基本理论及数值模拟 | 第80-86页 |
| ·基本理论推导 | 第80-84页 |
| ·数值模拟结果 | 第84-86页 |
| ·基于光学滤波的快速相关识别系统 | 第86-89页 |
| ·光学滤波部分实验光路 | 第87-88页 |
| ·基于光学滤波的相关识别系统 | 第88-89页 |
| ·光学滤波图像的相关识别实验结果 | 第89-94页 |
| ·输入图像亮度均匀化处理 | 第89-91页 |
| ·光学滤波图像的相关识别 | 第91-94页 |
| ·本章小结 | 第94-95页 |
| 结论 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-107页 |
| 攻读博士学位期间所发表的学术论文 | 第107-109页 |
| 致谢 | 第109-110页 |
| 个人简历 | 第110页 |
