| 致谢 | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-11页 |
| Abstract | 第11-18页 |
| 1 绪论 | 第18-69页 |
| ·微光学器件及其制作技术的发展现状 | 第18-42页 |
| ·微光学元件(MOEs)及MOMES简介 | 第18-23页 |
| ·常见的MOEs及MOMES制作技术介绍 | 第23-42页 |
| ·激光直写技术 | 第42-54页 |
| ·激光直写技术简介 | 第42-44页 |
| ·传统平面激光直写系统分类 | 第44-54页 |
| ·本论文的研究背景 | 第54-58页 |
| ·本论文主要研究内容简介 | 第58-61页 |
| 参考文献 | 第61-69页 |
| 2 恒姿态曲面激光直写系统的设计与实现 | 第69-97页 |
| ·恒姿态曲面激光直写系统的总体介绍 | 第71-89页 |
| ·一维线性X轴导轨和光学平台子系统 | 第74-78页 |
| ·工件夹持台、二维线性XY轴导轨和转台子系统 | 第78-82页 |
| ·光刻头及调焦、对中子系统 | 第82-83页 |
| ·系统控制结构、电气实现及下位机接口子系统 | 第83-85页 |
| ·人机UI上位机控制软件子系统 | 第85-87页 |
| ·刻蚀加工子系统 | 第87-89页 |
| ·系统调焦过程的理论几何模型简析 | 第89-91页 |
| ·恒姿态曲面激光直写系统的加工过程 | 第91-95页 |
| ·本章小结 | 第95-96页 |
| 参考文献 | 第96-97页 |
| 3 曲面旋涂甩胶的数学模型和实验研究 | 第97-120页 |
| ·平面甩胶理论研究 | 第100-103页 |
| ·凸面甩胶技术研究 | 第103-117页 |
| ·凸面旋涂甩胶的胶厚分布数学模型 | 第104-106页 |
| ·凸面旋涂甩胶的胶厚分布数学模型的实验研究 | 第106-112页 |
| ·凸面旋涂甩胶的胶厚分布均匀性实验研究 | 第112-116页 |
| ·凸面旋涂甩胶过程中的工艺参数最优化设计 | 第116-117页 |
| ·本章小结 | 第117-119页 |
| 参考文献 | 第119-120页 |
| 4 曲面旋涂甩胶的胶厚及分布检测技术研究 | 第120-149页 |
| ·基于双干涉条纹数字波面处理的凸面胶厚测量理论 | 第122-132页 |
| ·理论分析 | 第122-129页 |
| ·测量光束入射角的最优化选择 | 第129-132页 |
| ·基于透射式多光谱法的胶厚测量研究 | 第132-145页 |
| ·透射式双光谱法的平面均匀胶厚测量 | 第132-137页 |
| ·基于透射式多光谱法的凸面基片上胶厚分布逐点测量 | 第137-141页 |
| ·基于透射式连续光谱法的凸面基片上胶厚分布全场测量 | 第141-145页 |
| ·本章小结 | 第145-147页 |
| 参考文献 | 第147-149页 |
| 5 曲面激光直写光刻的曝光数学模型与实验研究 | 第149-179页 |
| ·薄层光刻胶平面基片上的Dill曝光理论模型 | 第150-154页 |
| ·薄层正性光刻胶的凸面激光直写光刻理论与实验研究 | 第154-175页 |
| ·恒姿态曲面激光直写系统中的光场分布 | 第156-161页 |
| ·凸面激光直写光刻过程中凸面基片的斜面逐点等效模型 | 第161-163页 |
| ·凸面激光直写光刻过程中的修正Dill曝光模型 | 第163-164页 |
| ·凸面激光直写的线宽和曝光深度模型 | 第164-168页 |
| ·凸面激光直写光刻线条的不对称性分析 | 第168-173页 |
| ·薄层正性光刻胶的凸面直写光刻实验结果分析与误差讨论 | 第173-175页 |
| ·本章小结 | 第175-177页 |
| 参考文献 | 第177-179页 |
| 6 恒姿态曲面激光直写系统的性能分析和初步应用 | 第179-189页 |
| ·恒姿态曲面激光直写系统光刻性能指标的理论简析 | 第180-184页 |
| ·恒姿态曲面激光直写系统的初步应用研究 | 第184-188页 |
| ·本章小结 | 第188-189页 |
| 7 总结与展望 | 第189-193页 |
| ·论文回顾与总结 | 第189-191页 |
| ·对未来的展望 | 第191-193页 |
| 附录A | 第193-196页 |
| 附录B | 第196-197页 |
| 攻读学位期间发表的学术成果 | 第197页 |
