硅基光子无源集成器件以及混合集成平台的研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 缩写清单 | 第10-11页 |
| 目次 | 第11-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-23页 |
| ·硅光子集成器件的发展现状及前景 | 第13-19页 |
| ·本论文的主要内容及创新点 | 第19-23页 |
| 第二章 光波导数值模拟方法 | 第23-37页 |
| ·平板波导基本理论 | 第23-27页 |
| ·波动方程 | 第23-25页 |
| ·TE模 | 第25-27页 |
| ·TM模 | 第27页 |
| ·波导模式的数值解法 | 第27-34页 |
| ·完美匹配边界条件 | 第27-29页 |
| ·有限差分波导模式分析器 | 第29-32页 |
| ·有限差分波束传播法 | 第32-34页 |
| ·时域有限差分方法 | 第34-37页 |
| 第三章 硅基光子器件制作工艺及测试平台 | 第37-53页 |
| ·整体工艺流程简介 | 第37-39页 |
| ·薄膜沉积:等离子增强化学气相沉积(PECVD) | 第39-41页 |
| ·电子束光刻(EBL) | 第41-46页 |
| ·干法刻蚀—反应离子刻蚀 | 第46-49页 |
| ·垂直耦合测试系统 | 第49-53页 |
| 第四章 超小型硅基光集成耦合器 | 第53-63页 |
| ·背景简介 | 第53-55页 |
| ·高效非均匀光栅耦合器 | 第55-59页 |
| ·光栅理论基础 | 第55-56页 |
| ·干法刻蚀迟滞效应 | 第56-57页 |
| ·器件设计制作及测试 | 第57-59页 |
| ·狭缝波导与条形波导的无损耦合器 | 第59-63页 |
| ·设计与分析 | 第59-60页 |
| ·器件制作及测试 | 第60-63页 |
| 第五章 硅波导器件的偏振非相关方案 | 第63-81页 |
| ·背景简介 | 第63-64页 |
| ·基于三明治波导的偏振非相关环形谐振器 | 第64-66页 |
| ·基于一维光栅的偏振分束器 | 第66-76页 |
| ·理论设计 | 第67-69页 |
| ·制作,测试以及第一个样品的结果 | 第69-72页 |
| ·带有布拉格反射镜的PBS | 第72-76页 |
| ·超小型偏振旋转器 | 第76-81页 |
| ·简介 | 第76页 |
| ·分析与设计 | 第76-78页 |
| ·制造误差分析 | 第78-81页 |
| 第六章 新型硅基有源器件混合集成平台 | 第81-99页 |
| ·背景简介 | 第81-84页 |
| ·化学物理抛光 | 第84-88页 |
| ·基于纯INP基片的侧向外延生长 | 第88-91页 |
| ·基于INP种子层的侧向外延生长 | 第91-93页 |
| ·混合集成平台的数值分析 | 第93-99页 |
| 第七章 总结与展望 | 第99-103页 |
| ·研究工作总结 | 第99-100页 |
| ·未来工作展望 | 第100-103页 |
| 在读博士期间发表的论文 | 第103-105页 |
| 参考文献 | 第105-115页 |
