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三维集成电路中硅通孔电磁特性分析与优化

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-9页
符号对照表第14-15页
缩略语对照表第15-20页
第一章 绪论第20-42页
    1.1 研究背景及意义第20-23页
    1.2 三维集成电路第23-28页
        1.2.1 三维集成电路的概念第23-24页
        1.2.2 三维集成电路的发展现状第24-26页
        1.2.3 三维集成电路面临的挑战第26-28页
    1.3 TSV技术第28-39页
        1.3.1 TSV的基本概念第28-30页
        1.3.2 基于TSV的三维集成电路的分类第30-33页
        1.3.3 TSV的研究进展第33-38页
        1.3.4 TSV面临的挑战第38-39页
    1.4 论文的研究内容和基本框架第39-42页
第二章 同轴环形TSV的电学特性研究第42-64页
    2.1 同轴环形TSV等效模型及分析第42-58页
        2.1.1 同轴环形TSV等效模型及寄生参数提取第42-52页
        2.1.2 同轴环形TSV模型验证第52-54页
        2.1.3 同轴环形TSV扩展性分析第54-58页
    2.2 同轴环形TSV的电学特性研究第58-63页
    2.3 本章小结第63-64页
第三章 锥形TSV感性耦合分析第64-92页
    3.1 锥形TSV的等效模型第64-69页
    3.2 相邻层衬底内锥形TSV间互感等效电路模型及计算公式第69-91页
        3.2.1 基于磁通量方法计算锥形TSV之间的互感第70-85页
        3.2.2 基于磁矢位方法计算锥形TSV之间的互感第85-91页
    3.3 本章小结第91-92页
第四章 TSV与RDL的串扰分析第92-112页
    4.1 基于TSV的三维集成电路耦合路径研究第92-94页
    4.2 TSV与RDL的串扰模型及分析方法第94-100页
    4.3 模型验证第100-105页
        4.3.1 TSV与RDL不同位置的耦合电容第100-101页
        4.3.2 TSV参数变化对耦合电容的影响第101页
        4.3.3 RDL长度对耦合电容的影响第101-102页
        4.3.4 RDL与TSV距离对耦合电容的影响第102-103页
        4.3.5 RDL与TSV的角度对耦合电容的影响第103-104页
        4.3.6 RDL高度对耦合电容的影响第104-105页
    4.4 计算效率比较第105页
    4.5 TSV和RDL之间串扰噪声分析第105-111页
        4.5.1 GSSG形式的TSV与RDL第105-107页
        4.5.2 几种不同结构的TSV与RDL之间的耦合电容分析第107-109页
        4.5.3 几种不同结构的TSV与RDL之间的串扰噪声分析第109-110页
        4.5.4 衬底电导率对TSV与RDL之间耦合电容的影响第110-111页
    4.6 本章小结第111-112页
第五章 TSV阵列的电磁串扰研究第112-134页
    5.1 基于TSV阵列的研究方法第112-113页
    5.2 TSV阵列的等效模型第113-116页
    5.3 抑制TSV信号间串扰的措施第116-117页
    5.4 TSV阵列布局第117-118页
    5.5 一种有效减小阵列TSV间串扰噪声的布局结构第118-127页
        5.5.1 单层衬底2个信号的串扰研究第118-120页
        5.5.2 单层衬底4个信号的串扰研究第120-122页
        5.5.3 单层衬底9个信号的串扰研究第122-124页
        5.5.4 单层衬底16个信号的串扰研究第124-127页
    5.6 一种应用于多层衬底下的有效减小TSV间串扰噪声的结构第127-133页
        5.6.1 多层衬底9个信号的串扰研究第128-131页
        5.6.2 阵列扩展第131-133页
    5.7 本章小结第133-134页
第六章 总结与展望第134-138页
    6.1 全文总结第134-135页
    6.2 工作展望第135-138页
参考文献第138-150页
致谢第150-152页
作者简介第152-154页

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