摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
缩略词表 | 第9-10页 |
1 前言 | 第10-18页 |
1.1 课题的由来 | 第10页 |
1.2 文献综述 | 第10-16页 |
1.2.1 连作障碍概述 | 第10-11页 |
1.2.2 连作障碍成因 | 第11-13页 |
1.2.3 缓解连作障碍的措施 | 第13-15页 |
1.2.4 根系腐解物及其化感作用 | 第15页 |
1.2.5 自毒物质降解菌 | 第15-16页 |
1.3 本研究的目的和意义 | 第16-18页 |
2 材料与方法 | 第18-27页 |
2.1 试验材料 | 第18-19页 |
2.1.1 材料 | 第18页 |
2.1.2 培养基 | 第18页 |
2.1.3 菌液保存方法 | 第18-19页 |
2.2 实验器材 | 第19页 |
2.3 试验方法 | 第19-26页 |
2.3.1 DL的制备 | 第19-20页 |
2.3.2 DL成分测定 | 第20页 |
2.3.3 根际微生物筛选 | 第20-21页 |
2.3.4 菌种鉴定 | 第21-23页 |
2.3.5 DL降解产物毒性测定 | 第23页 |
2.3.6 DL降解菌生长曲线测定 | 第23-24页 |
2.3.7 WH-N3生长最适条件及降解特性测定实验 | 第24-25页 |
2.3.8 WH-N3在桃树根际土壤中存活时间的测定 | 第25页 |
2.3.9 WH-N3对桃幼苗生长的影响 | 第25-26页 |
2.4 数据分析 | 第26-27页 |
3 结果与分析 | 第27-37页 |
3.1 DL成分测定 | 第27页 |
3.2 自毒物质降解菌的分离纯化 | 第27-28页 |
3.3 菌种鉴定 | 第28-30页 |
3.4 降解产物毒性测定 | 第30-31页 |
3.5 生长曲线测定与比较 | 第31-32页 |
3.6 WH-N3降解特性及最适生长条件测定 | 第32-35页 |
3.6.1 WH-N3对BA的降解测定 | 第32页 |
3.6.2 WH-N3对CN-的利用 | 第32-33页 |
3.6.3 不同温度对WH-N3生长的影响 | 第33-34页 |
3.6.4 不同pH值对WH-N3生长的影响 | 第34页 |
3.6.5 碳源添加物对WH-N3生长的影响 | 第34-35页 |
3.7 WH-N3在连作土中的存活实验 | 第35-36页 |
3.8 WH-N3对桃苗生长的影响 | 第36-37页 |
4 讨论 | 第37-41页 |
4.1 DL的化感作用分析 | 第37页 |
4.2 自毒物质降解菌 | 第37-39页 |
4.3 不同培养条件对WH-N3生长的影响 | 第39页 |
4.4 WH-N3对植物生长的影响 | 第39-41页 |
参考文献 | 第41-50页 |
附录A | 第50-60页 |
附录B | 第60-61页 |
致谢 | 第61页 |