| 摘要 | 第8-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 符号说明 | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-22页 |
| 1.1 引言 | 第14-15页 |
| 1.2 硬质涂层的应用及研究进展 | 第15-17页 |
| 1.2.1 硬质涂层的应用 | 第15页 |
| 1.2.2 硬质涂层的发展历史 | 第15-16页 |
| 1.2.3 TiCN涂层的研究进展 | 第16-17页 |
| 1.3 硬质涂层制备方法 | 第17-20页 |
| 1.3.1 磁控溅射技术 | 第17-18页 |
| 1.3.2 真空蒸发镀膜 | 第18页 |
| 1.3.3 多弧离子镀技术 | 第18-19页 |
| 1.3.4 化学气相沉积技术 | 第19-20页 |
| 1.4 选题的主要研究内容及意义 | 第20-22页 |
| 第二章 涂层的制备与表征方法 | 第22-27页 |
| 2.1 多弧离子镀设备 | 第22页 |
| 2.2 涂层制备 | 第22-23页 |
| 2.2.1 基体的制备与清洗 | 第22-23页 |
| 2.2.2 涂层制备流程 | 第23页 |
| 2.3 涂层表征方法 | 第23-27页 |
| 2.3.1 微观形貌测试 | 第24页 |
| 2.3.2 结构特性测试 | 第24-25页 |
| 2.3.3 力学特性测试 | 第25-26页 |
| 2.3.4 摩擦磨损特性测试 | 第26-27页 |
| 第三章 TiCN基复合涂层性能研究 | 第27-48页 |
| 3.1 碳元素含量对TiCN涂层的性能影响 | 第27-32页 |
| 3.2 脉冲磁场对TiCN涂层的性能影响 | 第32-39页 |
| 3.3 过渡层对TiCN基复合涂层的性能影响 | 第39-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-48页 |
| 第四章 TiCN/CrCN纳米多层膜 | 第48-58页 |
| 4.1 纳米多层膜的研究背景 | 第48-49页 |
| 4.2 TiCN/CrCN纳米多层膜的沉积过程 | 第49-50页 |
| 4.3 调制周期对TiCN/CrCN纳米多层膜的性能影响 | 第50-54页 |
| 4.4 纳米多层膜致硬机理研究 | 第54-56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 总结与展望 | 第58-62页 |
| 5.1 主要结果 | 第58-60页 |
| 5.2 主要创新点 | 第60-61页 |
| 5.3 工作展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第69-70页 |
| 附件 | 第70页 |