| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 引言 | 第11-20页 |
| 1.1 纳米材料简介 | 第11-13页 |
| 1.1.1 纳米材料的基本概念 | 第11页 |
| 1.1.2 纳米材料的性质 | 第11-12页 |
| 1.1.3 纳米材料的应用 | 第12-13页 |
| 1.2 纳米发光材料简介 | 第13-15页 |
| 1.2.1 纳米发光材料的定义 | 第13-14页 |
| 1.2.2 纳米发光材料的一般应用 | 第14页 |
| 1.2.3 量子点简介 | 第14-15页 |
| 1.3 硅量子点简介 | 第15-17页 |
| 1.4 硅量子点的研究现状 | 第17-19页 |
| 1.5 选题意义和研究内容 | 第19-20页 |
| 2 硅量子点的制备 | 第20-34页 |
| 2.1 实验药品 | 第21页 |
| 2.2 实验设备 | 第21-22页 |
| 2.3 测试仪器 | 第22页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第22-33页 |
| 2.4.1 还原硅烷法制备硅量子点 | 第22-27页 |
| 2.4.2 高能球磨法制备硅量子点 | 第27-30页 |
| 2.4.3 电化学刻蚀法制备硅量子点 | 第30-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 3 硅量子点的表面修饰 | 第34-46页 |
| 3.1 实验试剂 | 第35页 |
| 3.2 实验设备 | 第35-36页 |
| 3.3 测试仪器 | 第36页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第36-46页 |
| 3.4.1 基于还原硅烷法的直接修饰法修饰硅量子点 | 第36-38页 |
| 3.4.2 基于高能球磨法的直接修饰法修饰硅量子点 | 第38-42页 |
| 3.4.3 基于电化学刻蚀法的间接修饰法修饰硅量子点 | 第42-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46页 |
| 4 硅量子点的性能及应用 | 第46-64页 |
| 4.1 实验药品 | 第46-47页 |
| 4.2 实验设备 | 第47页 |
| 4.3 测试仪器 | 第47-48页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第48-63页 |
| 4.4.1 硅量子点在生物标记成像方面的应用 | 第48-50页 |
| 4.4.2 硅量子点在光催化还原二氧化碳方面的应用 | 第50-55页 |
| 4.4.3 硅量子点作为一种强还原剂在合成复合纳米材料方面的应用 | 第55-63页 |
| 4.5 本章小结 | 第63-64页 |
| 5 实验总结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 附录 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 个人简历 | 第72页 |
| 发表的学术论文 | 第72-73页 |
