| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 引言 | 第12-13页 |
| 2 文献综述 | 第13-44页 |
| 2.1 多铁性材料综述 | 第13-28页 |
| 2.1.1 多铁性材料的铁电性 | 第14-15页 |
| 2.1.2 多铁性材料的铁磁性 | 第15-17页 |
| 2.1.3 多铁性材料的磁电耦合效应 | 第17-19页 |
| 2.1.4 多铁性材料的种类 | 第19-28页 |
| 2.2 BiFeO_3基多铁性材料 | 第28-40页 |
| 2.2.1 BiFeO_3的晶体结构 | 第28-29页 |
| 2.2.2 BiFeO_3的铁电性 | 第29-30页 |
| 2.2.3 BiFeO_3的磁性 | 第30-32页 |
| 2.2.4 BiFeO_3基多铁性材料的磁电耦合效应及电场调控磁有序性 | 第32-40页 |
| 2.3 BiFeO_3基多铁性材料的应用前景 | 第40-44页 |
| 2.3.1 磁电随机存储器 | 第41-42页 |
| 2.3.2 多状态存储/逻辑器件 | 第42-44页 |
| 3 多铁性材料的制备及检测方法 | 第44-55页 |
| 3.1 多铁性氧化物薄膜的制备方法 | 第44-50页 |
| 3.1.1 气相沉积法(CVD) | 第44-45页 |
| 3.1.2 溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第45页 |
| 3.1.3 分子束外(MBE) | 第45页 |
| 3.1.4 脉冲激光沉积(PLD) | 第45-48页 |
| 3.1.5 磁控溅射 | 第48-50页 |
| 3.1.6 薄膜样品的真空退火 | 第50页 |
| 3.2 材料分析及检测方法 | 第50-55页 |
| 3.2.1 X射线衍射(XRD)及X射线荧光分析(XRF) | 第50-51页 |
| 3.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第51页 |
| 3.2.3 原子力显微镜(AFM)和压电力显微镜(PFM) | 第51-52页 |
| 3.2.4 振动样品磁强计(VSM),交变梯度磁强计(AGM) | 第52-53页 |
| 3.2.5 磁光克尔效应测试(MOKE) | 第53页 |
| 3.2.6 铁电性能测试 | 第53-54页 |
| 3.2.7 磁电阻四探针测量 | 第54-55页 |
| 4 脉冲激光沉积系统的光路改造及激光能量密度对BiFeO_3样品质量及交换偏置效应的影响研究 | 第55-64页 |
| 4.1 激光能量密度对PLD生长薄膜的影响 | 第55-56页 |
| 4.2 激光能量对BiFeO_3样品原子化学计量比的影响 | 第56-57页 |
| 4.3 脉冲激光沉积系统的激光光路改造 | 第57-59页 |
| 4.4 激光能量密度对BiFeO_3样品的交换偏置的影响 | 第59-60页 |
| 4.5 激光能量密度对BiFeO_3样品表面形貌和铁电性的影响 | 第60-61页 |
| 4.6 激光能量密度BiFeO_3对样品内部应力的影响 | 第61-63页 |
| 4.7 本章小结 | 第63-64页 |
| 5 多晶BiFeO_3/Co_2Fe(Al_(0.5)Si_(0.5))异质结的交换偏置研究 | 第64-71页 |
| 5.1 样品的制备过程 | 第64-65页 |
| 5.2 多晶BiFeO_3薄膜的结构和表面形貌 | 第65-66页 |
| 5.3 BiFeO_3/Co_2Fe(Al_(0.5)Si_(0.5))异质结的磁性能研究 | 第66-67页 |
| 5.4 多晶BiFe03薄膜的AFM和PFM测试 | 第67-68页 |
| 5.5 BiFeO_3/Co_2Fe(Al_(0.5)Si_(0.5))异质结的交换偏置现象的理论分析 | 第68-70页 |
| 5.6 本章小结 | 第70-71页 |
| 6 BiFeO_3(111)/NiFe异质结中电场调控各向异性磁电阻效应的研究 | 第71-80页 |
| 6.1 样品的制备过程 | 第71-72页 |
| 6.2 BiFeO_3薄膜的结构 | 第72-73页 |
| 6.3 BiFeO_3/NiFe异质结的磁性能测试 | 第73-74页 |
| 6.4 BiFeO_3/NiFe异质结的磁电阻及其电场调控测试 | 第74-76页 |
| 6.5 BiFeO_3/NiFe异质结电场调控现象的理论分析 | 第76-77页 |
| 6.6 进一步的研究计划 | 第77-79页 |
| 6.7 本章小结 | 第79-80页 |
| 7 BiFeO_3中以应力为媒介的电场调控磁有序性 | 第80-94页 |
| 7.1 钙钛矿结构中的应力 | 第80-82页 |
| 7.2 实验设计及样品制备 | 第82-83页 |
| 7.3 BFO薄膜的晶体结构 | 第83-85页 |
| 7.4 电场调控BFO薄膜的应力分析 | 第85-87页 |
| 7.5 应力诱导的电场调控交换偏置效应 | 第87-90页 |
| 7.6 理论分析 | 第90-93页 |
| 7.7 本章小结 | 第93-94页 |
| 8 BiFeO_3的光控电阻效应研究 | 第94-105页 |
| 8.1 BiFeO_3晶体的光致伸缩效应 | 第94-95页 |
| 8.2 初步实验与测试结果 | 第95-96页 |
| 8.3 BiFeO_3异质结可重复快速响应的光控电阻效应 | 第96-102页 |
| 8.4 理论分析与排除其它可能性 | 第102-104页 |
| 8.5 本章小结 | 第104-105页 |
| 9 结论 | 第105-106页 |
| 参考文献 | 第106-120页 |
| 作者简历及在学研究成果 | 第120-123页 |
| 学位论文数据集 | 第123页 |
