摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第15-25页 |
1.1 课题来源 | 第15页 |
1.2 研究背景及意义 | 第15-16页 |
1.3 流体抛光技术的研究现状 | 第16-20页 |
1.4 磨粒流光整加工技术的国内外研究现状 | 第20-22页 |
1.4.1 国内研究现状 | 第20-21页 |
1.4.2 国外研究现状 | 第21-22页 |
1.5 流体抛光在微结构表面抛光中的应用分析 | 第22-23页 |
1.6 论文研究目的与内容 | 第23-25页 |
1.6.1 研究目的 | 第23-24页 |
1.6.2 研究内容 | 第24-25页 |
第2章 微沟槽低黏度磨粒流抛光的理论模型 | 第25-34页 |
2.1 微沟槽低黏度磨粒流抛光的基本原理 | 第25-26页 |
2.2 湍流模型在低黏度磨粒流抛光中的应用 | 第26-28页 |
2.2.1 流体运动的基本模型 | 第26页 |
2.2.2 Realizable k-ε湍流模型 | 第26-27页 |
2.2.3 Realizable k-ε湍流模型的近壁区域处理 | 第27-28页 |
2.3 单颗磨粒在磨料液中的受力分析 | 第28-30页 |
2.4 微沟槽低黏度磨粒流抛光的材料去除机理 | 第30-32页 |
2.4.1 单颗磨粒冲击侵蚀模型 | 第31页 |
2.4.2 单颗磨粒摩擦磨损侵蚀模型 | 第31-32页 |
2.4.3 微沟槽低黏度磨粒流抛光的材料去除模型 | 第32页 |
2.5 本章小结 | 第32-34页 |
第3章 微沟槽低黏度磨粒流抛光的仿真分析 | 第34-54页 |
3.1 低黏度磨粒流的CFD基本原理 | 第34-35页 |
3.2 仿真模型及边界条件 | 第35-38页 |
3.2.1 仿真物理模型的建立 | 第35-36页 |
3.2.2 仿真模型网格划分 | 第36-37页 |
3.2.3 边界条件和初始条件 | 第37-38页 |
3.3 微沟槽低黏度磨粒流的二维两相流模拟及抛光通道优化 | 第38-45页 |
3.3.1 两相流模拟 | 第38-41页 |
3.3.2 方形槽加工通道的模拟优化 | 第41-45页 |
3.4 磨粒运动轨迹的模拟分析 | 第45-46页 |
3.5 微沟槽磨粒流抛光的三维两相流模拟 | 第46-48页 |
3.6 磨粒流对工件表面剪切力和动压力的仿真研究 | 第48-52页 |
3.6.1 工件表面动压力的数值模拟 | 第48-50页 |
3.6.2 工件表面剪切力的数值模拟 | 第50-52页 |
3.7 本章小结 | 第52-54页 |
第4章 抛光平台及实验准备 | 第54-62页 |
4.1 抛光平台的搭建 | 第54-59页 |
4.1.1 磨粒流循环系统基本原理 | 第54-55页 |
4.1.2 压力泵的选用 | 第55页 |
4.1.3 抛光装置的设计 | 第55-56页 |
4.1.4 抛光工具头 | 第56-58页 |
4.1.5 实验平台的搭建 | 第58-59页 |
4.2 实验材料的选取及准备 | 第59-60页 |
4.2.1 磨料材料 | 第59-60页 |
4.2.2 工件表面的砂纸粗磨 | 第60页 |
4.3 实验检测仪器 | 第60-61页 |
4.4 本章小结 | 第61-62页 |
第5章 微沟槽低黏度磨粒流抛光的实验研究 | 第62-74页 |
5.1 实验方法 | 第62页 |
5.2 铜材料去除率的抛光实验研究 | 第62-66页 |
5.2.1 抛光槽出口深度对材料去除率的影响 | 第63-64页 |
5.2.2 磨料浓度对材料去除率的影响 | 第64-65页 |
5.2.3 磨粒尺寸对材料去除率的影响 | 第65页 |
5.2.4 抛光通道入口压力对材料去除率的影响 | 第65-66页 |
5.3 不锈钢材料表面粗糙度的抛光实验研究 | 第66-73页 |
5.3.1 沿流道方向上不同位置的工件表面粗糙度的分析 | 第66-68页 |
5.3.2 磨粒尺寸对表面粗糙度影响 | 第68-69页 |
5.3.3 抛光通道入口压力对表面粗糙度影响 | 第69-70页 |
5.3.4 磨料浓度对表面粗糙度影响 | 第70-72页 |
5.3.5 抛光槽深度对表面粗糙度影响 | 第72-73页 |
5.4 本章小结 | 第73-74页 |
结论与展望 | 第74-77页 |
参考文献 | 第77-81页 |
致谢 | 第81-82页 |
附录A 攻读学位期间发表的论文 | 第82-83页 |
附录B 攻读学位期间参与的研究课题 | 第83页 |