| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第15-25页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第15-16页 |
| 1.2 磨料水射流抛光的研究进展 | 第16-19页 |
| 1.3 空化效应的研究进展 | 第19-23页 |
| 1.3.1 空化现象的研究进展 | 第19-20页 |
| 1.3.2 空化射流的研究进展 | 第20-23页 |
| 1.4 论文研究目的与内容 | 第23-24页 |
| 1.4.1 课题研究目的 | 第23页 |
| 1.4.2 论文研究内容及章节安排 | 第23-24页 |
| 1.5 本章小结 | 第24-25页 |
| 第2章 负压空化射流去除机理及流场仿真 | 第25-49页 |
| 2.1 负压射流基本理论 | 第25-27页 |
| 2.2 射流材料去除机理 | 第27-31页 |
| 2.2.1 射流中不考虑磨料影响 | 第27-28页 |
| 2.2.2 冲击磨损去除 | 第28-30页 |
| 2.2.3 剪切磨损去除 | 第30页 |
| 2.2.4 磨料去除总量 | 第30-31页 |
| 2.3 负压空化射流的增强作用 | 第31-33页 |
| 2.4 负压空化磨料水射流流场仿真 | 第33-47页 |
| 2.4.1 Fluent仿真流程 | 第33-34页 |
| 2.4.2 计算模型的选择 | 第34-37页 |
| 2.4.3 垂直喷射流场仿真 | 第37-43页 |
| 2.4.4 倾斜喷射流场仿真 | 第43-47页 |
| 2.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 第3章 实验平台系统搭建及抛光实验 | 第49-63页 |
| 3.1 实验平台系统搭建 | 第49-56页 |
| 3.1.1 抛光系统的设计方案 | 第49-50页 |
| 3.1.2 机械系统 | 第50-51页 |
| 3.1.3 压力系统 | 第51-53页 |
| 3.1.4 循环系统 | 第53-54页 |
| 3.1.5 控制系统模块 | 第54-55页 |
| 3.1.6 实验平台的搭建 | 第55-56页 |
| 3.2 装置性能验证性实验 | 第56-60页 |
| 3.2.1 实验材料 | 第56页 |
| 3.2.2 磨料的选择 | 第56-57页 |
| 3.2.3 磨料种类和粒径对抛光结果的影响 | 第57-58页 |
| 3.2.4 磨料水射流抛光工艺参数优化 | 第58-60页 |
| 3.3 抛光实验研究 | 第60-61页 |
| 3.4 本章小结 | 第61-63页 |
| 第4章 负压空化磨料水射流抛光工艺实验 | 第63-83页 |
| 4.1 铜的负压空化磨料水射流去除实验 | 第63-65页 |
| 4.1.1 三种不同的射流加工方式 | 第63-64页 |
| 4.1.2 三种方式的铜的去除抛光实验 | 第64-65页 |
| 4.2 工艺参数对去除率的影响 | 第65-69页 |
| 4.2.1 不同工艺参数对去除率的仿真 | 第65-67页 |
| 4.2.2 不同工艺参数对去除率影响实验 | 第67-69页 |
| 4.3 工艺参数对抛光表面质量的影响 | 第69-79页 |
| 4.3.1 定点抛光区域表面粗糙度分布规律 | 第69-71页 |
| 4.3.2 不同时间对抛光后表面粗糙度的影响 | 第71-73页 |
| 4.3.3 不同负压环境对抛光后表面粗糙度的影响 | 第73-75页 |
| 4.3.4 不同喷射压力对抛光后表面粗糙度的影响 | 第75-76页 |
| 4.3.5 不同抛光距离对抛光后表面粗糙度的影响 | 第76-78页 |
| 4.3.6 不同工艺参数对抛光后表面粗糙度影响比较 | 第78-79页 |
| 4.4 K9玻璃单点抛光实验 | 第79-82页 |
| 4.4.1 K9玻璃的磨削实验 | 第79页 |
| 4.4.2 实验研究 | 第79-82页 |
| 4.5 本章小结 | 第82-83页 |
| 结论与展望 | 第83-86页 |
| 参考文献 | 第86-90页 |
| 附录A 攻读学位期间参与的研究课题 | 第90-91页 |
| 附录B 在学期间取得的学术成果 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92页 |