| 中文摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 本文的创新点 | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-18页 |
| 1.1 多晶金电极表面预处理方法和粗糙度测定方法的研究现状 | 第11-13页 |
| 1.2 研究多晶金电极表面预处理方法和粗糙度测定方法的意义 | 第13-14页 |
| 1.3 表面粗糙度的定义与计算方法 | 第14-17页 |
| 1.4 本论文的研究目的 | 第17-18页 |
| 第二章 仪器、药品与实验操作 | 第18-22页 |
| 2.1 仪器 | 第18页 |
| 2.2 药品 | 第18页 |
| 2.3 多晶金电极表面四种预处理方法(M_1-M_4) | 第18-19页 |
| 2.4 实验操作 | 第19-22页 |
| 2.4.1 氧吸附法测定多晶金电极粗糙度(RF_O) | 第19页 |
| 2.4.2 电位阶跃—线性扫描法测定多晶金电极粗糙度(RF_(EL)) | 第19页 |
| 2.4.3 碘吸附法测定多晶金电极粗糙度(RF_1) | 第19-20页 |
| 2.4.4 以铁氰化钾为探针循环伏安法测定多晶金电极粗糙度(RF_(Fe)) | 第20页 |
| 2.4.5 以三氯化六氨合钌为探针循环伏安法测定多晶金电极粗糙度(RF_(Ru)) | 第20-21页 |
| 2.4.6 电化学抛光测定多晶金电极粗糙度(RF_E) | 第21-22页 |
| 第三章 实验结果讨论与统计学分析 | 第22-53页 |
| 3.1 多晶金电极表面经M_1-M_4预处理后,氧吸附法测定的RF_O的实验结果与统计学分析 | 第22-27页 |
| 3.2 微分电容法估算RF_C并与氧吸附法RF_O比较 | 第27-28页 |
| 3.3 多晶金电极表面经M_1-M_4预处理后,电位阶跃—线性扫描测定的RF_(EL)的实验结果与统计学分析 | 第28-32页 |
| 3.4 多晶金电极表面经M_1-M_4预处理后,碘吸附法测定的RF_I的实验结果与统计学分析 | 第32-37页 |
| 3.5 多晶金电极表面经M_1-M_4预处理后,以铁氰化钾为探针循环伏安法测定的RF_(Fe)的实验结果与统计学分析 | 第37-40页 |
| 3.6 多晶金电极表面经M_1-M_4预处理后,以三氯化六氨合钌为探针循环伏安法测定的RF_(Ru)的实验结果与统计学分析 | 第40-44页 |
| 3.7 多晶金电极表面经M_1-M_4预处理后,电化学抛光后的测定的RF_E的实验结果与统计学分析 | 第44-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-60页 |
